申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2020-07-14

公开（公告）日：2021-01-19

公开（公告）号：CN112242321A

主分类号：H01L21/67(20060101)

分类号：H01L21/67(20060101);H01L21/02(20060101)

优先权：["20190716 JP 2019-131192","20200528 JP 2020-093773"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.05.06#实质审查的生效;2021.01.19#公开

摘要：本发明提供处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法。实施方式的处理液释放喷嘴是释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴。处理液释放喷嘴包括喷嘴主体部和角度改变机构。喷嘴主体部包括：形成有与处理液供给通路连通的第1流路的第1主体部；和形成有与第1流路连通的第2流路，并相对于第1主体部弯曲的第2主体部。角度改变机构相对于固定喷嘴主体部的固定部件，改变水平方向上的喷嘴主体部的角度。本发明能够抑制颗粒的产生。

主权项：1.一种释放用于基片处理的处理液的处理液释放喷嘴，其特征在于，包括：喷嘴主体部，其具有：形成有与处理液供给通路连通的第1流路的第1主体部；和形成有与所述第1流路连通的第2流路，并相对于所述第1主体部弯曲的第2主体部；以及角度改变机构，其相对于固定所述喷嘴主体部的固定部件，改变水平方向上的所述喷嘴主体部的角度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 处理液释放喷嘴、喷嘴臂、基片处理装置和基片处理方法

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