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【实用新型】一种ITO薄膜均匀镀膜装置_赫得纳米科技(昆山)有限公司_201922484298.9 

申请/专利权人:赫得纳米科技(昆山)有限公司

申请日:2019-12-31

公开(公告)日:2021-01-19

公开(公告)号:CN212370468U

主分类号:B05B16/40(20180101)

分类号:B05B16/40(20180101);B05B14/43(20180101);B05B14/48(20180101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.01.19#授权

摘要:本实用新型公开了一种ITO薄膜均匀镀膜装置,包括镀膜箱、过滤箱、镀膜装置、注液装置和过滤装置;将ITO薄膜经过镀膜箱内部的镀膜池内,通过注液口和镀膜液喷淋管注入镀膜液对ITO薄膜进行喷淋镀膜,喷淋多余的镀膜液经过镀膜池内部的注液板流入到排液口处,在经过排液口向外侧排出,此时,过滤箱主要用于对镀膜箱内的粉尘进行吸附过滤,空气会依次沿着下导流通道和上导流通道之间的V型流道流动,从而被吸附和冷却,吸附效果高且冷却效果也好;无纺布表面可植入绒毛,导热板和冷却管均可为铝制或铜制,增加导热性,冷却管可以外接接冷却水,下过滤网可以避免其他大尺寸物体进入过滤箱内,上过滤网避免其他物体进入抽真空泵内,起到保护作用。

主权项:1.一种ITO薄膜均匀镀膜装置,包括镀膜箱、过滤箱、镀膜装置、注液装置和过滤装置;其特征在于,所述镀膜箱1的上端设有过滤箱11,且镀膜箱1的内部上端设有注液装置,镀膜箱1的内部下端设有镀膜装置,且过滤箱11的内部设有过滤装置;所述镀膜装置包括镀膜池3、支撑板2、注液板4和排液口5;所述镀膜箱1内部下端的左侧设有支撑板2,且镀膜箱1内部下端的右侧设有镀膜池3,镀膜池3的内部下侧设有倾斜状的注液板4,且镀膜池3的右端下侧与注液板4的对应处设有排液口5,且排液口5的一侧端部贯穿延伸至镀膜箱1的外端下侧。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 赫得纳米科技(昆山)有限公司 一种ITO薄膜均匀镀膜装置

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