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【实用新型】基于双层基片集成的漏波天线_浙江大学_202021642651.8 

申请/专利权人:浙江大学

申请日:2020-08-10

公开(公告)日:2021-01-19

公开(公告)号:CN212380573U

主分类号:H01Q13/22(20060101)

分类号:H01Q13/22(20060101);H01Q21/00(20060101)

优先权:

专利状态码:失效-避免重复授权放弃专利权

法律状态:2023.07.14#避免重复授权放弃专利权;2021.01.19#授权

摘要:本实用新型公开了一种基于双层基片集成的漏波天线,包括上下两层基片,所述的基片皆为两层覆铜层中间夹有介质层的结构,上层基片包括上层表层覆铜层、上层介质层、上层底层覆铜层;设有多排平行金属过孔贯穿上层基片,形成多排表面为矩形的腔体,即上层基片集成波导;下层基片包括下层表层覆铜层、下层介质层、下层底层覆铜层;设有多排平行金属过孔贯穿下层基片,形成多排表面为平行四边形的腔体,即下层基片集成波导;上层底层覆铜层及下层表层覆铜层相应位置分别设有耦合槽,将上下两层基片耦合;上层表层覆铜设有多排辐射槽。本实用新型可以实现在更小的带宽,扫描更大的角度,同时加工容易,制作方便,非常适合通讯设备和雷达等扫描仪器的使用。

主权项:1.一种基于双层基片集成的漏波天线,其特征在于,包括上下两层基片,所述的基片皆为两层覆铜层中间夹有介质层的结构,上层基片包括上层表层覆铜层、上层介质层、上层底层覆铜层;设有多排平行金属过孔贯穿上层基片,形成多排上表面为矩形的波导腔体,即上层基片集成波导;下层基片包括下层表层覆铜层、下层介质层、下层底层覆铜层;设有多排平行金属过孔贯穿下层基片,形成多排上表面为平行四边形的波导腔体,即下层基片集成波导;上层底层覆铜层及下层表层覆铜层相应位置分别设有耦合槽,将上下两层基片耦合;上层表层覆铜设有多排辐射槽。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 浙江大学 基于双层基片集成的漏波天线

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