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【发明公布】一种钕铁硼磁体晶界扩散深度的评估方法_中钢集团南京新材料研究院有限公司;中钢天源股份有限公司_202011188507.6 

申请/专利权人:中钢集团南京新材料研究院有限公司;中钢天源股份有限公司

申请日:2020-10-30

公开(公告)日:2021-02-09

公开(公告)号:CN112345571A

主分类号:G01N23/223(20060101)

分类号:G01N23/223(20060101);G01N23/2202(20180101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.05.23#授权;2021.03.02#实质审查的生效;2021.02.09#公开

摘要:本发明公布了一种钕铁硼磁体晶界扩散深度的评估方法,将经过晶界扩散工艺处理后的钕铁硼磁体加工至标准尺寸,将加工后的钕铁硼磁体表面进行磨削处理,制备成一组磨削不同厚度的样片。将磨削后的钕铁硼磁体通过X射线荧光光谱仪进行检测,得其测试面的扩散元素X荧光强度,根据磨削的厚度与待测元素X荧光强度关系可以评估出该钕铁硼磁体的晶界扩散深度。将晶界扩散深度不同的一系列钕铁硼磁体样品磨削0.8mm厚度,此系列样片作为参考样片,形成参考样片的晶界扩散深度‑荧光强度对照表。将未知样品按照与参考样片同样的方法进行磨削处理,通过X射线荧光光谱仪测其取向面晶界扩散元素的X荧光强度,与参考样片比较,可快速评估该钕铁硼磁体的晶界扩散深度。

主权项:1.一种钕铁硼磁体晶界扩散深度的评估方法,其特征在于,包括如下步骤:1选择数块同批次晶界扩散工艺处理后的钕铁硼磁体平行于磁场方向,其磁场方向的厚度为4~12mm,进行线切割处理,加工至标准尺寸,将加工后的钕铁硼磁体通过精密磨床对取向面进行磨削处理,制备成一组磨削了一定厚度的钕铁硼磁体样片;2通过X荧光光谱仪测定步骤1中制备的钕铁硼磁体样片,测其晶界扩散元素的强度,同时用未经过晶界扩散工艺处理的钕铁硼磁体样片的X荧光强度作空白,估算该批次钕铁硼磁体的晶界扩散深度;3选择若干批次的钕铁硼磁体重复步骤1至步骤2;4将晶界扩散深度不同的一系列钕铁硼磁体样品磨削0.8mm厚度,此系列样片作为参考样片,将钕铁硼磁体的晶界扩散深度与磨削厚度为0.8mm时的测定强度对应起来,编制成钕铁硼磁体的晶界扩散深度与0.8mm处荧光强度对照表;5按照步骤1的方法加工待测钕铁硼磁体,并将取向面磨削0.8mm厚度,通过X荧光光谱仪测定其晶界扩散元素强度,将测定结果代入步骤4中编制的表格,可估算该钕铁硼磁体的晶界扩散深度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中钢集团南京新材料研究院有限公司;中钢天源股份有限公司 一种钕铁硼磁体晶界扩散深度的评估方法

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