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【发明授权】透明导电电极的制备方法_苏州诺菲纳米科技有限公司_201811274747.0 

申请/专利权人:苏州诺菲纳米科技有限公司

申请日:2018-10-30

公开(公告)日:2021-02-09

公开(公告)号:CN109402635B

主分类号:C23F1/02(20060101)

分类号:C23F1/02(20060101);C23F1/30(20060101);H01B13/00(20060101);H01B5/14(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.02.09#授权;2019.03.26#实质审查的生效;2019.03.01#公开

摘要:本发明提供了一种透明导电电极的制备方法,包括如下步骤:在基板上涂布银纳米线构成银纳米线导电膜;在银纳米线导电膜上涂布基质,所述基质覆盖或半覆盖所述银纳米线构成传导层;将具有通孔的掩膜板置于所述传导层上方,被所述掩膜板覆盖的传导层构成第一区域;采用预处理液对通过通孔向外暴露的传导层进行处理,增加所述银纳米线在所述基质表面的裸露量,同时将银纳米线的至少部分表面转换成难溶盐;采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理,构成第二区域。该方法通过预处理液对传导层进行处理,增加银纳米线的裸露数量;同时将银纳米线表面形成难溶性银盐,降低银的氧化电位,以降低银纳米线的蚀刻条件,从而降低后续工艺的蚀刻痕。

主权项:1.一种透明导电电极的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:在基板上涂布银纳米线构成银纳米线导电膜;在银纳米线导电膜上涂布基质,所述基质覆盖或半覆盖所述银纳米线构成传导层;将具有通孔的掩膜板置于所述传导层上方,被所述掩膜板覆盖的传导层构成第一区域;采用预处理液对通过通孔向外暴露的传导层进行处理,增加所述银纳米线在所述基质表面的裸露量,同时将银纳米线的至少部分表面转换成难溶盐;采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理,构成第二区域。

全文数据:透明导电电极的制备方法技术领域本发明涉及透明导电电极制备领域,尤其涉及一种透明导电电极的制备方法。背景技术银纳米线透明导电膜具有柔性特征,因此,在柔性显示、触控传感器、太阳能电池、可穿戴设备等领域具有广泛的应用。在上述应用中,需要对银纳米线构成的导电层进行图案化处理加工,具体可以通过干法,例如激光刻蚀;湿法,例如喷墨打印蚀刻剂、丝印蚀刻膏以及蚀刻液实现加工。其中湿法蚀刻相较于激光蚀刻在生产效率上更有优势,特别是黄光蚀刻工艺可以通过卷对卷作业,能够大大提高产量。但是湿法蚀刻是通过化学试剂与银纳米线反应,可能会导致蚀刻区银纳米线密度下降、直径变细或者长度变短,从而产生蚀刻区与非蚀刻区的外观对比,影响最终产品的光学性能。有鉴于此,有必要提供一种改进的纳米银蚀刻液及其制备方法,以解决上述问题。发明内容本发明的目的在于提供一种低蚀刻痕的透明导电电极的制备方法。为实现上述发明目的,本发明提供了一种透明导电电极的制备方法,包括如下步骤:在基板上涂布银纳米线构成银纳米线导电膜;在银纳米线导电膜上涂布基质,所述基质覆盖或半覆盖所述银纳米线构成传导层;将具有通孔的掩膜板置于所述传导层上方,被所述掩膜板覆盖的传导层构成第一区域;采用预处理液对通过通孔向外暴露的传导层进行处理,增加所述银纳米线在所述基质表面的裸露量,同时将银纳米线的至少部分表面转换成难溶盐;采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理,构成第二区域。作为本发明的进一步改进,所述预处理液包括:80~99.9%溶剂、0.1~10%预处理剂,0.1~1%pH调节剂,0.1~1%表面活性剂。作为本发明的进一步改进,所述预处理剂为能够与银离子形成难溶性盐的试剂,所述预处理剂为氯化钠、氯化钾、溴化钠、溴化钾、碘化钠、碘化钾、氰化钠、氰化钾、硫氰化钠、硫氰化钾、硫化钠、硫化钾中的一种或多种的混合;或所述预处理剂为含有巯基的有机物,含有巯基的有机物为乙硫醇、十二硫醇、1,3-丙二硫醇、半胱氨酸、或谷胱甘肽,或所述预处理剂为能够螯合银粒子的有机物,能够螯合银粒子的有机物为苯并三氮唑、或乙二胺四乙酸。作为本发明的进一步改进,采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理具体为:通过丝网印刷工艺将丝网印刷蚀刻液涂布于预处理剂处理后的传导层,然后对传导层进行加热,加热温度为30℃~150℃,加热时间为1分钟~60分钟。作为本发明的进一步改进,所述丝网印刷蚀刻液由蚀刻母液加入1%~20%的填料构成;所述蚀刻母液包括:80%~99.9%溶剂、0.1%~10%蚀刻剂,0.1%~1%pH调节剂,0.1%~1%表面活性剂;所述填料为惰性无机物,所述惰性无机物为气相二氧化硅、或膨润土、或硫酸钡;或所述填料为惰性有机高分子,所述惰性有机高分子为PVP、或羟基纤维素。作为本发明的进一步改进,采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理具体为:通过喷墨打印工艺将喷墨打印蚀刻液涂布于预处理剂处理后的传导层,然后对传导层进行加热,加热温度为30℃~120℃,加热时间为1~30分钟。作为本发明的进一步改进,所述喷墨打印蚀刻液由蚀刻母液加入含量0%~90%的稀释剂构成;所述蚀刻母液包括:80%~99.9%溶剂、0.1%~10%蚀刻剂,0.1%~1%pH调节剂,0.1%~1%表面活性剂;所述稀释液为水或醇类,所述醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。作为本发明的进一步改进,采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理具体为:通过黄光工艺将黄光工艺蚀刻液涂布于预处理剂处理后的传导层,黄光蚀刻工艺的蚀刻温度为30℃~60℃,蚀刻时间为15秒~240秒。作为本发明的进一步改进,所述黄光工艺蚀刻液由蚀刻母液含量1~90%的稀释剂构成,所述蚀刻母液包括:80%~99.9%溶剂、0.1%~10%蚀刻剂,0.1%~1%pH调节剂,0.1%~1%表面活性剂;所述稀释液为水或醇类,所述醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。作为本发明的进一步改进,采用预处理液、蚀刻液对通过通孔向外暴露的传导层进行处理,具体为:将预处理液直接加入到黄光工艺的显影液中,显影温度为30~60℃、显影时间为15~240秒;然后将黄光蚀刻液涂布于经过预处理液处理后的传导层,黄光蚀刻工艺的蚀刻温度为30℃~60℃,蚀刻时间为15秒~240秒。作为本发明的进一步改进,所述黄光工艺蚀刻液由蚀刻母液含量1~90%的稀释剂构成,所述蚀刻母液包括:80%~99.9%溶剂、0.1%~10%蚀刻剂,0.1%~1%pH调节剂,0.1%~1%表面活性剂;所述稀释液为水或醇类,所述醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。作为本发明的进一步改进,所述蚀刻剂为具有金属阳离子的盐,具有金属阳离子的盐为Fe3+、Cu2+组成的盐中的一种或多种;或所述蚀刻剂为无机氧化物,所述无机氧化物为次氯酸根、高氯酸根、重铬酸根、高锰酸根组成的盐中的一种或多种;或所述蚀刻剂为无机过氧化物,所述无机过氧化物为双氧水、金属过氧化物、过硫酸盐中的一种或多种;或所述蚀刻剂为有机氧化剂,所述有机氧化剂为过氧化氢异丙苯、过氧化二叔丁基、过乙酸、过氧化苯甲酰中的一种或多种。作为本发明的进一步改进,溶剂为水或醇类,醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。作为本发明的进一步改进,pH调节剂为无机酸,无机酸为硝酸、硫酸、盐酸和磷酸中的一种或多种;或pH调节剂为有机酸,有机酸为甲酸、乙酸、丙酸、草酸、柠檬酸、乳酸中的一种或多种;或pH调节剂为无机碱,无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾中的一种或多种;或pH调节剂为强碱弱酸盐,强碱弱酸盐为碳酸钠、碳酸钾、磷酸钠、磷酸钾、乙酸钠、乙酸钾、草酸钠、草酸钾中的一种或多种。作为本发明的进一步改进,表面活性剂是阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性离子表面活性剂及非离子表面活性剂中的一种或几种的混合物。本发明的有益效果是:本发明的透明导电电极的制备方法,通过预处理液对传导层进行处理,溶解或部分溶解所述基质,增加银纳米线的裸露数量;同时将银纳米线表面形成难溶性银盐,降低银的氧化电位,以降低银纳米线的蚀刻条件,从而降低后续工艺的蚀刻痕,使得第一区域与第二区域的光学性质差异较小,且在外观上的视觉差异非常小,由其制备的显示屏外观基本一致。具体实施方式为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面结合具体实施例对本发明进行详细描述。本发明旨在提供一种透明导电电极的制备方法,包括如下步骤:在基板上涂布银纳米线构成银纳米线导电膜;在银纳米线导电膜上涂布基质,所述基质覆盖或半覆盖所述银纳米线构成传导层;将具有通孔的掩膜板置于所述传导层上方;被所述掩膜板覆盖的传导层构成第一区域;采用预处理液对通过通孔向外暴露的传导层进行处理,增加所述银纳米线在所述基质表面的裸露量,同时将银纳米线的至少部分表面转换成难溶盐;采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理,构成第二区域。其中,所用到的基板的材料为玻璃,或者为聚对苯二甲酸乙二酯PET、聚萘二甲酸酯、聚碳酸酯等聚酯,或者为聚酰亚胺,或者为EPR、SBR、EPDM等合成橡胶,或者为聚二甲基硅氧烷硅氧烷等含硅化合物。所述银纳米线采用现有技术中的方法合成,于此不再赘述。所述基质主要为光学透明的聚合物,适当的聚合物基质的实例包括但不限于:聚甲基丙烯酸酯例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸酯和聚丙烯腈的聚丙烯酸化物、聚乙烯醇、聚酯例如,聚对苯二甲酸乙二酯PET、聚萘二甲酸酯和聚碳酸酯、诸如酚醛塑料或甲酚-甲醛的具有高度芳香性的聚合物、聚苯乙烯、聚乙烯基甲苯、聚乙烯基二甲苯、聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺-酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚硫化物、聚砜、聚亚苯基、聚苯醚、聚氨酯PU、环氧、聚烯烃例如聚丙烯、聚甲基戊烯和环烯烃、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物ABS、纤维素、硅酮及其它含硅的聚合物例如聚倍半硅氧烷和聚硅烷、聚氯乙烯PVC、聚乙酸酯、聚降冰片烯、合成橡胶例如EPR、SBR、EPDM、含氟聚合物例如聚偏二氟乙烯、聚四氟乙烯TFE或聚六氟丙烯。所述掩膜板可以为现有技术中用到的各种掩膜板,例如:金属材质的掩膜板或由光刻胶形成的掩膜板等,于此不再赘述。在传导层制作完成后,裸露在基质之外的银纳米线的数量不可控,且银纳米线在基质外的裸露部分不确定,可能为银纳米线的两端,也可能为银纳米线的中间部分。本发明通过预处理液对传导层进行处理,溶解或部分溶解所述基质,增加银纳米线的裸露数量;同时将银纳米线表面形成难溶性银盐,降低银的氧化电位,以降低银纳米线的蚀刻条件,从而降低后续工艺的蚀刻痕。本领域技术人员可以理解的是:所述难溶性银盐是指在25℃条件下,沉淀平衡常数Ksp<1*10-10。例如将银转化成氯化银,银的氧化还原电位是Ag+e-=Ag+E=0.799eV,而AgCl+e-=Ag+Cl-E=0.222eV,所以更容易被氧化,降低所需的蚀刻条件,从而降低后续工艺的蚀刻痕。所述预处理液包括:80~99.9%溶剂、0.1~10%预处理剂,0.1~1%pH调节剂,0.1~1%表面活性剂。其中,溶剂为水或醇类,醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。通过该溶剂可以溶解或部分溶解所述基质,增加银纳米线的裸露数量,便于在蚀刻过程中进行蚀刻。所述预处理剂为能够与银离子形成难溶性盐的试剂,目的是降低Ag的氧化点位,在预处理的这一工艺步骤中,难溶性银盐仍保留在原银纳米线表面。具体地,所述预处理剂为氯化钠、氯化钾、溴化钠、溴化钾、碘化钠、碘化钾、氰化钠、氰化钾、硫氰化钠、硫氰化钾、硫化钠、硫化钾中的一种或多种的混合;或所述预处理剂为含有巯基的有机物,含有巯基的有机物为乙硫醇、十二硫醇、1,3-丙二硫醇、半胱氨酸、或谷胱甘肽,或所述预处理剂为能够螯合银粒子的有机物,能够螯合银粒子的有机物为苯并三氮唑、或乙二胺四乙酸。金属原子的价电子比较少,容易失去电子变成金属阳离子,释放出的价电子在整个晶体中可以自由移动,成为自由电子从而体现导电性;而平常状态阳离子和自由电子保持平衡,所以不显电性;但在溶剂中,所有的金属表面都伴随微量的金属离子。例如在溶剂中,银纳米线表面会有微量的银离子,所述预处理剂能够与这微量的银离子反应生成难溶性银盐而保留在原银纳米线附近。pH调节剂为无机酸,无机酸为硝酸、硫酸、盐酸和磷酸中的一种或多种;或pH调节剂为有机酸,有机酸为甲酸、乙酸、丙酸、草酸、柠檬酸、乳酸中的一种或多种;或pH调节剂为无机碱,无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾中的一种或多种;或pH调节剂为强碱弱酸盐,强碱弱酸盐为碳酸钠、碳酸钾、磷酸钠、磷酸钾、乙酸钠、乙酸钾、草酸钠、草酸钾中的一种或多种。表面活性剂是阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性离子表面活性剂及非离子表面活性剂中的一种或几种的混合物。采用所述蚀刻液处理预处理剂处理后的传导层,具体工艺包括:喷墨打印工艺、丝网印刷工艺、黄光工艺。各种工艺使用的蚀刻液分别为:喷墨打印蚀刻液、丝网印刷蚀刻液、黄光工艺蚀刻液。本发明的各种蚀刻液由蚀刻母液混合各自工艺需要的添加剂构成;所述蚀刻母液包括:80%~99.9%溶剂、0.1%~10%蚀刻剂,0.1%~1%pH调节剂,0%~1%表面活性剂。其中,蚀刻剂为带有氧化性质的试剂,所述蚀刻剂为具有金属阳离子的盐,具有金属阳离子的盐为Fe3+、Cu2+组成的盐中的一种或多种;或所述蚀刻剂为无机氧化物,所述无机氧化物为次氯酸根、高氯酸根、重铬酸根、高锰酸根组成的盐中的一种或多种;或所述蚀刻剂为无机过氧化物,所述无机过氧化物为双氧水、金属过氧化物、过硫酸盐中的一种或多种;或所述蚀刻剂为有机氧化剂,所述有机氧化剂为过氧化氢异丙苯、过氧化二叔丁基、过乙酸、过氧化苯甲酰中的一种或多种。蚀刻剂机理在于:蚀刻剂用于氧化零价银,而难溶性银盐的氧化电位0.222eV比单质银氧化电位0.799eV更低,更容易氧化形成一价银,电导性能大幅度降低,从而失去导电性,达到“蚀刻”的目的。蚀刻母液与预处理液的溶剂、pH调节剂、表面活性剂的选择范围均相同。溶剂为水或醇类,醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。pH调节剂为无机酸,无机酸为硝酸、硫酸、盐酸和磷酸中的一种或多种;或pH调节剂为有机酸,有机酸为甲酸、乙酸、丙酸、草酸、柠檬酸、乳酸中的一种或多种;或pH调节剂为无机碱,无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾中的一种或多种;或pH调节剂为强碱弱酸盐,强碱弱酸盐为碳酸钠、碳酸钾、磷酸钠、磷酸钾、乙酸钠、乙酸钾、草酸钠、草酸钾中的一种或多种。表面活性剂是阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性离子表面活性剂及非离子表面活性剂中的一种或几种的混合物。所述喷墨印刷蚀刻液由上述蚀刻母液加入含量0.1~90%的稀释剂构成,所述稀释液可以是水,也可以使醇类如甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。喷墨印刷工艺具体为:预处理后的传导层上通过喷墨印刷工艺涂布喷墨印刷蚀刻液,然后对传导层进行加热以加速蚀刻效果;加热温度为30℃~120℃,加热时间为1~30分钟。于一具体参考实施例中,蚀刻母液包括蚀刻剂高锰酸钾5%,溶剂去离子水90%和乙二醇10%,pH调节剂硫酸0.5%。取10份蚀刻母液及70份乙二醇、20份聚乙二醇得到可用于喷墨打印的喷墨打印蚀刻液。将喷墨打印蚀刻液打印于预处理后的传导层表面后,设定加热温度为30℃~120℃,加热时间为1分钟~30分钟,加速蚀刻效果。所述丝网印刷蚀刻液由上述蚀刻母液加入1~20%的填料得到丝网印刷蚀刻液,填料可参考CN201710708988中的惰性无机物:气相二氧化硅、膨润土、硫酸钡等;或惰性有机高分子:PVP、羟基纤维素等。丝网印刷工艺具体为:预处理后的传导层上通过丝网印刷工艺涂布丝网印刷蚀刻液,然后对传导层进行加热以加速蚀刻效果,加热温度为30℃~150℃,加热时间为1分钟~60分钟。于一具体参考实施例中,蚀刻母液包括蚀刻剂高锰酸钾5%,溶剂去离子水90%和乙二醇10%,pH调节剂硫酸0.5%。取10份蚀刻母液,10份二氧化硅,20份PVP,30份乙二醇,30份聚乙二醇混合得到丝网印刷蚀刻液。将该丝网印刷蚀刻液丝印于预处理后的传导层表面后,设定加热温度为30℃~150℃,加热时间为1分钟~60分钟,加速蚀刻效果。所述黄光工艺蚀刻液由上述蚀刻母液加入含量1~90%的稀释剂构成,所述稀释液为水或醇类,所述醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。黄光蚀刻工艺的蚀刻温度为30℃~60℃,蚀刻时间为15秒~240秒。具体地,可以在黄光工艺蚀刻前通过预处理液对传导层进行预处理,也可以将预处理液直接加入到黄光工艺的显影液中,不必增加蚀刻槽;显影温度为30~60℃、显影时间为15~240秒。于第一黄光蚀刻实施例中,蚀刻母液包括蚀刻剂高锰酸钾5%,溶剂去离子水90%和乙二醇10%,pH调节剂硫酸0.5%。取10份蚀刻组合物及90份去离子水得到黄光工艺蚀刻液。将带有干膜的银纳米线导电膜分别经过曝光、显影后过蚀刻液。其中显影液处理温度为30℃,显影时间为2分钟;蚀刻液处理温度为30℃,蚀刻时间为2分钟;导电膜被蚀刻前后的光学及方阻参数如下:a*b*雾度%透过率%方阻Ω□蚀刻前-0.2171.671.3590.46%45.0蚀刻后-0.2331.2090.9290.91%3672.2表格中,a*表示色差,当a*数值较大时代表颜色较红的或少绿的,但为负值偏小时代表较绿的或少红的;b*表示色差,b*数值较大时代表颜色偏黄或少蓝色,负值较小时代表颜色偏蓝或少黄色。于第二黄光蚀刻实施例中,蚀刻母液包括蚀刻剂高锰酸钾5%,溶剂去离子水90%和乙二醇10%,pH调节剂硫酸0.5%。取10份蚀刻母液及90份去离子水得到黄光工艺蚀刻液。预处理液包括0.1%硫化钠,1%碳酸钠,1%草酸钾、98份去离子水;将该预处理液直接作为黄光工艺的显影液使用。将带有干膜的银纳米线导电膜分别经过曝光、显影后过蚀刻液。其中显影液处理温度为30℃,显影时间为2分钟。蚀刻液处理温度为30℃,蚀刻时间为2分钟。相较于上第一黄光蚀刻实施例,蚀刻后雾度变化更小,电阻变化更大,具体导电膜被蚀刻前后的光学及方阻参数如下:a*b*雾度%透过率%方阻Ω□蚀刻前-0.2081.6811.3690.4345.0蚀刻后-0.2681.4461.0890.7大于10k综上所述,本发明的透明导电电极的制备方法,通过预处理液对传导层进行处理,溶解或部分溶解所述基质,增加银纳米线的裸露数量;同时将银纳米线表面形成难溶性银盐,降低银的氧化电位,以降低银纳米线的蚀刻条件,从而降低后续工艺的蚀刻痕,使得第一区域与第二区域的光学性质差异较小,且在外观上的视觉差异非常小,由其制备的显示屏外观基本一致。以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的精神和范围。

权利要求:1.一种透明导电电极的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:在基板上涂布银纳米线构成银纳米线导电膜;在银纳米线导电膜上涂布基质,所述基质覆盖或半覆盖所述银纳米线构成传导层;将具有通孔的掩膜板置于所述传导层上方,被所述掩膜板覆盖的传导层构成第一区域;采用预处理液对通过通孔向外暴露的传导层进行处理,增加所述银纳米线在所述基质表面的裸露量,同时将银纳米线的至少部分表面转换成难溶盐;采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理,构成第二区域。2.根据权利要求1所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:所述预处理液包括:80~99.9%溶剂、0.1~10%预处理剂,0.1~1%pH调节剂,0.1~1%表面活性剂。3.根据权利要求2所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:所述预处理剂为能够与银离子形成难溶性盐的试剂,所述预处理剂为氯化钠、氯化钾、溴化钠、溴化钾、碘化钠、碘化钾、氰化钠、氰化钾、硫氰化钠、硫氰化钾、硫化钠、硫化钾中的一种或多种的混合;或所述预处理剂为含有巯基的有机物,含有巯基的有机物为乙硫醇、十二硫醇、1,3-丙二硫醇、半胱氨酸、或谷胱甘肽,或所述预处理剂为能够螯合银粒子的有机物,能够螯合银粒子的有机物为苯并三氮唑、或乙二胺四乙酸。4.根据权利要求1所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理具体为:通过丝网印刷工艺将丝网印刷蚀刻液涂布于预处理剂处理后的传导层,然后对传导层进行加热,加热温度为30℃~150℃,加热时间为1分钟~60分钟。5.根据权利要求4所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:所述丝网印刷蚀刻液由蚀刻母液加入1%~20%的填料构成;所述蚀刻母液包括:80%~99.9%溶剂、0.1%~10%蚀刻剂,0.1%~1%pH调节剂,0.1%~1%表面活性剂;所述填料为惰性无机物,所述惰性无机物为气相二氧化硅、或膨润土、或硫酸钡;或所述填料为惰性有机高分子,所述惰性有机高分子为PVP、或羟基纤维素。6.根据权利要求1所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理具体为:通过喷墨打印工艺将喷墨打印蚀刻液涂布于预处理剂处理后的传导层,然后对传导层进行加热,加热温度为30℃~120℃,加热时间为1~30分钟。7.根据权利要求6所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:所述喷墨打印蚀刻液由蚀刻母液加入含量0%~90%的稀释剂构成;所述蚀刻母液包括:80%~99.9%溶剂、0.1%~10%蚀刻剂,0.1%~1%pH调节剂,0.1%~1%表面活性剂;所述稀释液为水或醇类,所述醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。8.根据权利要求1所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:采用蚀刻液对预处理剂处理后的传导层进行处理具体为:通过黄光工艺将黄光工艺蚀刻液涂布于预处理剂处理后的传导层,黄光蚀刻工艺的蚀刻温度为30℃~60℃,蚀刻时间为15秒~240秒。9.根据权利要求8所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:所述黄光工艺蚀刻液由蚀刻母液加入含量1~90%的稀释剂构成,所述蚀刻母液包括:80%~99.9%溶剂、0.1%~10%蚀刻剂,0.1%~1%pH调节剂,0.1%~1%表面活性剂;所述稀释液为水或醇类,所述醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。10.根据权利要求1所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:采用预处理液、蚀刻液对通过通孔向外暴露的传导层进行处理,具体为:将预处理液直接加入到黄光工艺的显影液中,显影温度为30~60℃、显影时间为15~240秒;然后将黄光蚀刻液涂布于经过预处理液处理后的传导层,黄光蚀刻工艺的蚀刻温度为30℃~60℃,蚀刻时间为15秒~240秒。11.根据权利要求10所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:所述黄光工艺蚀刻液由蚀刻母液加入含量1~90%的稀释剂构成,所述蚀刻母液包括:80%~99.9%溶剂、0.1%~10%蚀刻剂,0.1%~1%pH调节剂,0.1%~1%表面活性剂;所述稀释液为水或醇类,所述醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。12.根据权利要求5、7、9、11中任意一项所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:所述蚀刻剂为具有金属阳离子的盐,具有金属阳离子的盐为Fe3+、Cu2+组成的盐中的一种或多种;或所述蚀刻剂为无机氧化物,所述无机氧化物为次氯酸根、高氯酸根、重铬酸根、高锰酸根组成的盐中的一种或多种;或所述蚀刻剂为无机过氧化物,所述无机过氧化物为双氧水、金属过氧化物、过硫酸盐中的一种或多种;或所述蚀刻剂为有机氧化剂,所述有机氧化剂为过氧化氢异丙苯、过氧化二叔丁基、过乙酸、过氧化苯甲酰中的一种或多种。13.根据权利要求2、5、7、9、11中任意一项所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:溶剂为水或醇类,醇类为甲醇、乙醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇中的一种或多种的混合。14.根据权利要求2、5、7、9、11中任意一项所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:pH调节剂为无机酸,无机酸为硝酸、硫酸、盐酸和磷酸中的一种或多种;或pH调节剂为有机酸,有机酸为甲酸、乙酸、丙酸、草酸、柠檬酸、乳酸中的一种或多种;或pH调节剂为无机碱,无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾中的一种或多种;或pH调节剂为强碱弱酸盐,强碱弱酸盐为碳酸钠、碳酸钾、磷酸钠、磷酸钾、乙酸钠、乙酸钾、草酸钠、草酸钾中的一种或多种。15.根据权利要求2、5、7、9、11中任意一项所述的透明导电电极的制备方法,其特征在于:表面活性剂是阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性离子表面活性剂及非离子表面活性剂中的一种或几种的混合物。

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