申请/专利权人：株式会社FLOSFIA

申请日：2019-06-21

公开（公告）日：2021-02-12

公开（公告）号：CN112368429A

主分类号：C30B29/16(20060101)

分类号：C30B29/16(20060101);C23C16/02(20060101);C23C16/455(20060101);C30B25/16(20060101);C30B25/18(20060101);H01L21/365(20060101);H01L21/368(20060101)

优先权：["20180626 JP 2018-121404"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.05.18#实质审查的生效;2021.02.12#公开

摘要：本发明提供一种即使在刚玉结构中也能够在工业上有利地形成减少了由于小面生长引起的位移等的缺陷的外延膜的成膜方法。在具有刚玉结构的晶体基板的晶体生长面上，直接或经由其他层形成外延膜时，使用在晶体生长面上形成有至少包括凹部或凸部的凹凸部的晶体基板，通过将含有金属的原料溶液雾化，使液滴飘浮，将得到的雾化液滴用载气运送到所述晶体基板附近，接着，在设为供给限速的条件下，使所述雾化液滴产生热反应来形成外延膜。

主权项：1.一种成膜方法，其特征在于，在具有刚玉结构的晶体基板的晶体生长面上，直接或经由其他层，形成外延膜，在所述晶体基板的晶体生长面上形成有凹凸部，在设为供给限速的条件下进行所述成膜。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社FLOSFIA 成膜方法及结晶性层叠结构体

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