申请/专利权人:长江存储科技有限责任公司
申请日:2020-05-29
公开(公告)日:2021-02-12
公开(公告)号:CN212542361U
主分类号:H01L21/67(20060101)
分类号:H01L21/67(20060101);H01L27/11524(20170101);H01L27/11551(20170101);H01L27/1157(20170101);H01L27/11578(20170101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2021.02.12#授权
摘要:公开了一种晶圆清洗装置,包括输送管和喷嘴,所述喷嘴设置在所述输送管的一端,所述输送管的另一端与流量阀连接,其中,所述喷嘴呈莲蓬状。本申请的喷嘴呈莲蓬头状,并且在喷嘴朝向待清洗晶圆的表面上设置有多个喷孔,多个喷孔呈面分布,可以减小清洗液的流速,有助于降低对晶圆表面的冲击力,有效减弱高速液体流冲击晶圆表面造成的损伤,从而提高产品的良率以及可靠性。
主权项:1.一种晶圆清洗装置,其特征在于,包括输送管和喷嘴,所述喷嘴设置在所述输送管的一端,所述输送管的另一端与流量阀连接,其中,所述喷嘴呈莲蓬状。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 长江存储科技有限责任公司 晶圆清洗装置
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