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【发明公布】磁记录介质_富士电机株式会社_202011284552.1 

申请/专利权人:富士电机株式会社

申请日:2018-01-29

公开(公告)日:2021-02-19

公开(公告)号:CN112382315A

主分类号:G11B5/73(20060101)

分类号:G11B5/73(20060101);G11B5/31(20060101);G11B5/706(20060101)

优先权:["20170310 JP 2017-046648"]

专利状态码:失效-发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态:2022.05.17#发明专利申请公布后的视为撤回;2021.03.09#实质审查的生效;2021.02.19#公开

摘要:提供一种将平均粒径和粒径分散降低的磁记录介质。提供一种具有可适用作磁记录介质的磁特性磁各向异性能的磁记录介质。该磁记录介质以一层配置在另一层之上的方式依次包含基板、粒径控制层、第1种晶层、第2种晶层、以及包含有序合金的磁记录层;所述第2种晶层由i晶粒和ii晶界材料构成;所述晶粒以TiN作为主成分,所述晶界材料以选自金属氧化物和碳中的至少一种以上的材料作为主成分。

主权项:1.一种磁记录介质,它依次包含基板、粒径控制层、第1种晶层、第2种晶层、以及包含有序合金的磁记录层;所述第2种晶层由晶粒和晶界材料构成;所述晶粒以TiN作为主成分,所述晶界材料以选自金属氧化物和碳中的至少一种以上的材料作为主成分;所述第1种晶层依次包含下部第1种晶层和上部第1种晶层;所述下部第1种晶层包含ZnO、AlN、GaN或者InN;所述上部第1种晶层包含MgO。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 富士电机株式会社 磁记录介质

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