【发明授权】掺杂方法_上海凯世通半导体股份有限公司_201810011757.9 

申请/专利权人:上海凯世通半导体股份有限公司

申请日:2018-01-05

发明/设计人:何川;陈炯

公开(公告)日:2021-02-19

代理机构:上海弼兴律师事务所

公开(公告)号:CN110010719B

代理人:薛琦

主分类号:H01L31/18(20060101)

地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区牛顿路200号7号楼单元1

分类号:H01L31/18(20060101);H01L21/265(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.02.19#授权;2019.08.06#实质审查的生效;2019.07.12#公开

摘要:本发明公开了一种掺杂方法,包括:在一第一导电类型衬底上形成一第二导电类型预掺杂层;在该第二导电类型预掺杂层上设置一第一掩膜;对该第一开放区域进行第一导电类型离子注入以中和该第一开放区域的第二导电类型掺杂;在该第二导电类型预掺杂层上设置一第二掩膜;对该第二开放区域进行第一导电类型离子注入以形成第一导电类型掺杂区,去除该第二掩膜,其中未经注入的第二导电类型预掺杂层为第二导电类型掺杂区,该第一导电类型掺杂区和第二导电类型掺杂区被中性区隔离开。在对IBC电池的背面进行掺杂时,引入了非晶硅或多晶硅,通过在非晶硅或多晶硅中的反型注入,来形成P区和N区之间的隔离。

主权项:1.一种掺杂方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:在一第一导电类型衬底上形成一第二导电类型预掺杂层;S2:在该第二导电类型预掺杂层上设置一第一掩膜,该第二导电类型预掺杂层上未被该第一掩膜遮挡的区域为第一开放区域;S3:对该第一开放区域进行第一导电类型离子注入以中和该第一开放区域的第二导电类型掺杂,使得该第一开放区域呈中性状态,之后使该第一导电类型衬底离开该第一掩膜的作用区域;S4:在该第二导电类型预掺杂层上设置一第二掩膜,该第二导电类型预掺杂层上未被该第二掩膜遮挡的区域为第二开放区域,其中该第二开放区域与该第一开放区域重叠,该第二开放区域小于该第一开放区域;S5:对该第二开放区域进行第一导电类型离子注入以使得该第二开放区域形成第一导电类型掺杂区,之后使该第一导电类型衬底离开该第二掩膜的作用区域,其中未经注入的第二导电类型预掺杂层为第二导电类型掺杂区,只经历一次第一导电类型离子注入的第一开放区域为中性区,该第一导电类型掺杂区和第二导电类型掺杂区被中性区隔离开。

全文数据:掺杂方法技术领域本发明涉及一种掺杂方法,特别是涉及一种背接触电池的掺杂方法。背景技术IBCinterdigitatedbackcontact太阳能电池是最早研究的背结电池,最初主要用于聚光系统中,SUNPOWER公司制作的IBC太阳能电池的最高转换效率可达24%,然后由于其采用了光刻工艺,由于光刻所带来的复杂操作使得其成本难以下降,给民用或者普通场合的商业化应用造成困难。为了降低成本,也有利用掩模板来形成交叉排列的P区和N区,但是在制作过程中必须用到多张掩模板,不仅增加了制作成本,由于光刻技术需要精确校准因此还产生了采用不同掩模板需要校准的问题,为制作过程带来了不少难度。再者,如果采用光刻胶作为掩膜,那么形成掩膜和去除的掩膜的步骤也比较繁多。另外,在现有的产线中,通过两次热扩散来形成P区和N区。为了隔离开P区和N区,通常需要掩模刻蚀步骤,增加了工艺的复杂性同时也降低了电池生产的良率。新开发的多晶硅钝化电极技术由于其避免了金属半导体接触处的少子复合,极大的提高了晶硅电池的开压。这项新的技术也被用于IBC电池结构中,但是同样的P掺杂的多晶硅和N掺杂的多晶硅接触的区域会造成载流子的严重复合,进而降低电池效率。为了隔离P型多晶硅和N型多晶硅,同样需要刻蚀步骤,使得IBC电池生产工艺变得复杂。发明内容本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术形成IBC电池背面的掺杂时采用热扩散工艺需要用到传统掩膜、工艺复杂、P区和N区难以隔离的缺陷,提供一种可以确保P区和N区完全隔离的掺杂方法。本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:一种掺杂方法,其特点在于,包括以下步骤:S1:在一第一导电类型衬底上形成一第二导电类型预掺杂层;S2:在该第二导电类型预掺杂层上设置一第一掩膜,该第二导电类型预掺杂层上未被该第一掩膜遮挡的区域为第一开放区域;S3:对该第一开放区域进行第一导电类型离子注入以中和该第一开放区域的第二导电类型掺杂,使得该第一开放区域呈中性状态,之后使该第一导电类型衬底离开该第一掩膜的作用区域;S4:在该第二导电类型预掺杂层上设置一第二掩膜,该第二导电类型预掺杂层上未被该第二掩膜遮挡的区域为第二开放区域,其中该第二开放区域与该第一开放区域重叠,该第二开放区域小于该第一开放区域;S5:对该第二开放区域进行第一导电类型离子注入以使得该第二开放区域形成第一导电类型掺杂区,之后使该第一导电类型衬底离开该第二掩膜的作用区域,其中未经注入的第二导电类型预掺杂层为第二导电类型掺杂区,只经历一次第一导电类型离子注入的第一开放区域为中性区,该第一导电类型掺杂区和第二导电类型掺杂区被中性区隔离开,其中可以是移动衬底使其不再被掩膜所阻挡,也可以是移除掩膜使衬底不再被掩膜遮挡。优选地,该第二导电类型预掺杂层为掺杂有第二导电类型掺杂元素的非晶硅或多晶硅。优选地,该第二导电类型预掺杂层通过以下步骤形成:在该第一导电类型衬底上生长非晶硅或多晶硅,并原位掺杂第二导电类型掺杂元素。优选地,该第二导电类型预掺杂层通过以下步骤形成:在该第一导电类型衬底上生长非晶硅或多晶硅,通过第二导电类型掺杂元素的离子注入在该非晶硅或多晶硅中形成第二导电类型掺杂,或者,在该第一导电类型衬底上生长非晶硅或多晶硅,通过热扩散形成第二导电类型掺杂。优选地,该中性区的宽度为0.1μm-500μm,该第一导电类型掺杂区宽度10μm-3000μm,该第二导电类型掺杂区宽度10μm-3000μm。优选地,该第二导电类型预掺杂层的厚度5nm-500nm。优选地,第二导电类型预掺杂层为硼注入的非晶硅和多晶硅,注入剂量为5e14-5e15cm2,注入能量为0.1keV-10keV,或者,中性区磷注入剂量第一次注入在第二导电类型预掺杂层中磷的注入剂量为5e14-5e15cm2,注入能量为0.1keV-10keV,或者,第一导电类型掺杂区为磷注入的非晶硅和多晶硅,注入剂量第二次离子注入的剂量为1e15-1e16cm2,注入能量为0.1keV-10keV。优选地,该第一掩膜为具有若干第一狭缝的石墨、陶瓷、氧化硅、氧化铝、碳化硅或硅片,该第二掩膜为具有若干第二狭缝的石墨、陶瓷、氧化硅、氧化铝、碳化硅或硅片,该第一狭缝和该第二狭缝一一对应,且狭缝方向一致。优选地,该第一狭缝的宽度为50μm-1000μm,相邻第一狭缝之间的间距为1mm-5mm,或者,该第二狭缝的宽度为50μm-1000μm,相邻第二狭缝之间的间距为1mm-5mm。优选地,该第一掩模到该第一导电类型衬底的距离为1mm-20mm,或者,该第二掩模到该第一导电类型衬底的距离为1mm-20mm。优选地,该第一掩膜和该第二掩膜位于同一离子注入设备中,该第一掩膜和该第二掩膜之间的对准误差为1μm-50μm,该校准误差为第一狭缝的中心线与相应的第二狭缝的中心线的垂直距离。优选地,该第一掩膜和该第二掩膜为同一掩膜板的不同区域,其中第一狭缝的中心线与相应的第二狭缝的中心线的垂直距离小于等于50μm。在形成该第一导电类型掺杂区、第二导电类型掺杂区和该中性区之后,对该结构进行退火处理,退火温度为600℃-1000℃,时间为1分钟-90分钟。在符合本领域常识的基础上,上述各优选条件,可任意组合,即得本发明各较佳实例。本发明所用试剂和原料均市售可得。本发明的积极进步效果在于:在对IBC电池的背面进行掺杂时,引入了非晶硅或多晶硅,通过将尺寸合适的掩膜置于束流和衬底之间,来阻挡部分区域的离子注入。并且,通过在非晶硅或多晶硅中的反型注入,来形成P区和N区之间的隔离。本发明工艺简单易行,P区和N区隔离的工艺也大大简化了IBC电池的生产流程,降低成本及提高了良率。附图说明图1为本发明实施例1形成第二导电类型预掺杂层的示意图。图2为本发明实施例1形成第一掩膜的示意图。图3为本发明实施例1第一次离子注入的示意图。图4为本发明实施例1完成第一次离子注入后移出第一掩膜所得结构的示意图。图5为本发明实施例1形成第二掩膜的示意图。图6为本发明实施例1第二次离子注入的示意图。图7为本发明实施例1完成第二次离子注入后移出第二掩膜所得的掺杂结构的示意图。图8为本发明实施例3的第一掩膜和第二掩膜的设置示意图。图9为本发明实施例4的第一掩膜和第二掩膜的设置示意图。具体实施方式下面通过实施例的方式进一步说明本发明,但并不因此将本发明限制在所述的实施例范围之中。下列实施例中未注明具体条件的实验方法,按照常规方法和条件,或按照商品说明书选择。实施例1该掺杂方法,包括以下步骤:参考图1,在一第一导电类型衬底100上形成一第二导电类型预掺杂层101,该第二导电类型预掺杂层通过以下步骤形成:在该第一导电类型衬底上生长厚度为300nm的多晶硅,并原位掺杂第二导电类型掺杂元素。参考图2,在该第二导电类型预掺杂层101上设置一第一掩膜2,该第二导电类型预掺杂层上未被该第一掩膜覆盖的区域为第一开放区域A1宽度200μm。参考图3和图4,对该第一开放区域A1进行第一导电类型离子注入以中和该第一开放区域的第二导电类型掺杂,注入剂量1e15cm2,注入能量5keV,使得该第一开放区域呈中性状态,与第一开放区域对应的多晶硅以102标记,被第一掩膜2遮挡的部分仍然以101标记,移除该第一掩膜2或者硅片移出第一掩膜2遮挡的区域,得到如图4所示的结构。参考图5,在该第二导电类型预掺杂层101上设置一第二掩膜3,该第二导电类型预掺杂层上未被该第二掩膜覆盖的区域为第二开放区域A2宽度150μm,其中该第二开放区域与该第一开放区域重叠,该第二开放区域小于该第一开放区域。参考图6和图7,对该第二开放区域进行第一导电类型离子注入以使得该第二开放区域形成第一导电类型掺杂区103,注入剂量5e15cm2,注入能量5keV,移除该第二掩膜3或者硅片移出第二掩膜遮挡的区域,其中未经注入的第二导电类型预掺杂层为第二导电类型掺杂区,依然以101表示,该第一导电类型掺杂区和第二导电类型掺杂区被中性区隔离开,中性区即仅经历过一次注入的多晶硅,仍以102表示。其中,第二导电类型掺杂元素为硼,第一导电类型掺杂元素为磷,第一掩膜和第二掩膜均由石墨制程,离子注入时,第一掩膜和第二掩膜距离第一导电类型衬底的距离为10mm。实施例2实施例2的基本原理与实施例1一致,不同之处在于:该第二导电类型预掺杂层为在非晶硅中注入第二导电类型掺杂元素。在完成两次注入得到如图7所示的结构之后,进行退火处理,退火温度800℃,时间30分钟,非晶硅转变成多晶硅。其余未提及之处参照实施例1。实施例3参考图8,实施例3的基本原理与实施例1一致,具体来说第一掩膜2和第二掩膜3位于同一离子注入设备中,第一掩膜2上设置有若干第一狭缝21,第二掩膜3上设置有若干第二狭缝31图中为了简洁,仅示出3条狭缝,每条第一狭缝21和每条第二狭缝31一一对应,第一掩膜和第二掩膜之间的对准误差为10μm。即,第一狭缝21的中心线211与第二狭缝31的中心线311的垂直距离在箭头Ar方向上的距离为10μm。实施例4参考图9,实施例4的基本原理与实施例3一致,不同之处在于第一掩膜和第二掩膜为同一块掩膜板的不同区域,即本实施例中起阻挡作用的为同一块掩膜板,但是该掩膜板上的不同区域设置有第一狭缝和第二狭缝,分别作为第一掩膜和第二掩膜以虚线框出,仍然以附图标记2和3表示。这样的设置方式,使得第一掩膜2和第二掩膜3的校准难度降低,只要在加工狭缝的过程中保证加工精度,就能够免去两个掩膜的校准步骤。这样只要使得衬底一次移动经过掩膜板,就可以完成第一导电类型掺杂区、第二导电类型掺杂区和中性区的制作,并且也不存在第一掩膜和第二掩膜位置校准的问题。虽然以上描述了本发明的具体实施方式,但是本领域的技术人员应当理解,这些仅是举例说明,本发明的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本发明的原理和实质的前提下,可以对这些实施方式做出多种变更或修改,但这些变更和修改均落入本发明的保护范围。

权利要求:1.一种掺杂方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:在一第一导电类型衬底上形成一第二导电类型预掺杂层;S2:在该第二导电类型预掺杂层上设置一第一掩膜,该第二导电类型预掺杂层上未被该第一掩膜遮挡的区域为第一开放区域;S3:对该第一开放区域进行第一导电类型离子注入以中和该第一开放区域的第二导电类型掺杂,使得该第一开放区域呈中性状态,之后使该第一导电类型衬底离开该第一掩膜的作用区域;S4:在该第二导电类型预掺杂层上设置一第二掩膜,该第二导电类型预掺杂层上未被该第二掩膜遮挡的区域为第二开放区域,其中该第二开放区域与该第一开放区域重叠,该第二开放区域小于该第一开放区域;S5:对该第二开放区域进行第一导电类型离子注入以使得该第二开放区域形成第一导电类型掺杂区,之后使该第一导电类型衬底离开该第二掩膜的作用区域,其中未经注入的第二导电类型预掺杂层为第二导电类型掺杂区,只经历一次第一导电类型离子注入的第一开放区域为中性区,该第一导电类型掺杂区和第二导电类型掺杂区被中性区隔离开。2.如权利要求1所述的掺杂方法,其特征在于,该第二导电类型预掺杂层为掺杂有第二导电类型掺杂元素的非晶硅或多晶硅。3.如权利要求1所述的掺杂方法,其特征在于,该第二导电类型预掺杂层通过以下步骤形成:在该第一导电类型衬底上生长非晶硅或多晶硅,并原位掺杂第二导电类型掺杂元素。4.如权利要求1所述的掺杂方法,其特征在于,该第二导电类型预掺杂层通过以下步骤形成:在该第一导电类型衬底上生长非晶硅或多晶硅,通过第二导电类型掺杂元素的离子注入在该非晶硅或多晶硅中形成第二导电类型掺杂,或者,在该第一导电类型衬底上生长非晶硅或多晶硅,通过热扩散形成第二导电类型掺杂。5.如权利要求1-4中任意一项所述的掺杂方法,其特征在于,该中性区的宽度为0.1μm-500μm,该第一导电类型掺杂区宽度10μm-3000μm,该第二导电类型掺杂区宽度10μm-3000μm。6.如权利要求1-4中任意一项所述的掺杂方法,其特征在于,该第二导电类型预掺杂层的厚度5nm-500nm。7.如权利要求1-4中任意一项所述的掺杂方法,其特征在于,第二导电类型预掺杂层为硼注入的非晶硅和多晶硅,注入剂量为5e14-5e15cm2,注入能量为0.1keV-10keV,或者,中性区的磷注入剂量为5e14-5e15cm2,注入能量为0.1keV-10keV,或者,第一导电类型掺杂区为磷注入的非晶硅和多晶硅,注入剂量为1e15-1e16cm2,注入能量为0.1keV-10keV。8.如权利要求1-4中任意一项所述的掺杂方法,其特征在于,该第一掩膜为具有若干第一狭缝的石墨、陶瓷、氧化硅、氧化铝、碳化硅或硅片,该第二掩膜为具有若干第二狭缝的石墨、陶瓷、氧化硅、氧化铝、碳化硅或硅片,该第一狭缝和该第二狭缝一一对应,且狭缝方向一致。9.如权利要求8所述的掺杂方法,其特征在于,该第一狭缝的宽度为50μm-1000μm,相邻第一狭缝之间的间距为1mm-5mm,或者,该第二狭缝的宽度为50μm-1000μm,相邻第二狭缝之间的间距为1mm-5mm。10.如权利要求9所述的掺杂方法,其特征在于,该第一掩模到该第一导电类型衬底的距离为1mm-20mm,或者,该第二掩模到该第一导电类型衬底的距离为1mm-20mm。11.如权利要求8所述的掺杂方法,其特征在于,该第一掩膜和该第二掩膜位于同一离子注入设备中,该第一掩膜和该第二掩膜之间的对准误差为1μm-50μm,该校准误差为第一狭缝的中心线与相应的第二狭缝的中心线的垂直距离。12.如权利要求8所述的掺杂方法,其特征在于,该第一掩膜和该第二掩膜为同一掩膜板的不同区域,其中第一狭缝的中心线与相应的第二狭缝的中心线的垂直距离小于等于50μm。

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