【实用新型】检测设备_深圳中科飞测科技有限公司_202022219285.1 

申请/专利权人:深圳中科飞测科技有限公司

申请日:2020-09-30

发明/设计人:王南朔;马砚忠;张朝前;卢继奎;陈鲁

公开(公告)日:2021-02-19

代理机构:上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

公开(公告)号:CN212567516U

代理人:高静

主分类号:G01D21/02(20060101)

地址:518109 广东省深圳市龙华区大浪街道同胜社区上横朗第四工业区2号101、201、301

分类号:G01D21/02(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.02.19#授权

摘要:本实用新型提供一种光学设备及其工作方法,其中,所述光学设备包括:一种检测设备,其特征在于,包括:第一检测装置,包括:入射模块,用于产生入射至待测物表面的第一探测光,所述第一探测光在所述待测物表面形成第一光斑出射模块,用于根据所述第一出射光获取待测物表面待测膜层的厚度;第二检测装置,包括:第二光源,用于产生入射至待测物表面的第二探测光,所述第二探测光在所述待测物表面形成第二光斑;第二探测组件,用于根据所述第二光斑在第二探测组件表面的位置确定所述待测物的待测区内的应力,所述第二光斑与第一光斑至少部分重合。所述检测设备能够实现应力检测和膜厚检测的结合,且能够减小设备体积。

主权项:1.一种检测设备,其特征在于,包括:第一检测装置,包括:入射模块,用于产生入射至待测物表面的第一探测光,所述第一探测光在所述待测物表面形成第一光斑,所述第一探测光经待测物之后形成第一出射光;出射模块,用于收集所述第一出射光,并根据所述第一出射光获取待测物表面待测膜层的厚度;第二检测装置,包括:第二光源,用于产生入射至待测物表面的第二探测光,所述第二探测光在所述待测物表面形成第二光斑,所述第二探测光经待测物后形成第二出射光;第二探测组件,用于探测所述第二出射光,并根据第二出射光确定所述待测物的待测区内的应力,所述第二光斑与第一光斑至少部分重合。

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