申请/专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司

申请日：2019-08-16

公开（公告）日：2021-02-23

公开（公告）号：CN112394609A

主分类号：G03F1/00(20120101)

分类号：G03F1/00(20120101);G02F1/13(20060101);G02F1/1335(20060101);G02F1/1343(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.03.12#实质审查的生效;2021.02.23#公开

摘要：本发明提供一种掩模板及曝光方法。所述掩模板包括液晶盒结构、位于其第一表面一侧的第一电极层和第一偏光膜以及位于其第二表面一侧的第二电极层和第二偏光膜，第一电极层包括覆盖液晶层表面不同位置的多个第一透明电极，第二电极层包括与各个第一透明电极位置对应且极性相反的第二透明电极，当通过在第一透明电极和第二透明电极形成电场时，电场中的液晶分子发生偏转会使得从第二偏光膜输出的光通量发生变化，进而在液晶层的范围内形成包括遮光区和透光区的掩模图案，该掩模板上形成的掩模图案是可写可擦除的，从而可以实现多种掩模图案的写入，有利于减少掩模板的数量，便于管理，减少成本。所述曝光方法利用了上述掩模板。

主权项：1.一种掩模板，其特征在于，包括：液晶盒结构，所述液晶盒结构具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面和所述第二表面之间设有隔离材料围成的封闭的间隙腔，在所述间隙腔内填充有液晶层；第一电极层和第一偏光膜，对应于所述液晶层依次设置于所述第一表面远离所述第二表面的一侧，所述第一电极层包括覆盖所述液晶层表面不同位置的多个第一透明电极；以及第二电极层和第二偏光膜，对应于所述液晶层依次设置于所述第二表面远离所述第一表面的一侧，所述第二电极层包括与各个所述第一透明电极位置对应且极性相反的至少一个第二透明电极，所述第一偏光膜和所述第二偏光膜的滤光方向正交。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 合肥晶合集成电路股份有限公司 掩模板及曝光方法

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