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【发明公布】显示基板的制造方法和掩膜板组件_京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司_201910763581.7 

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司

申请日:2019-08-19

公开(公告)日:2021-02-23

公开(公告)号:CN112397674A

主分类号:H01L51/56(20060101)

分类号:H01L51/56(20060101);C23C14/04(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.04.12#授权;2021.03.12#实质审查的生效;2021.02.23#公开

摘要:本公开提供一种显示基板的制造方法和掩膜板组件。在显示基板的制造方法中,提供第一掩膜板,其中第一掩膜板的开口大小由显示区的大小与第一最小距离共同确定,第一最小距离为在从显示区到非显示区的方向上,显示区的边界与功能层的边界之间的距离,第一最小距离由从显示区延伸至非显示区的功能层的第一阴影宽度确定,第一阴影宽度为在预设区域内蒸镀功能层的情况下,在预设区域内形成的阴影区的宽度最大值;利用第一掩膜板形成功能层。本公开在提升AA区显示良率的同时,还能减小OLED设备的边框。

主权项:1.一种显示基板的制造方法,包括:提供第一掩膜板,其中所述第一掩膜板的开口大小由显示区的大小与第一最小距离共同确定,所述第一最小距离为在从显示区到非显示区的方向上,所述显示区的边界与功能层的边界之间的距离,所述第一最小距离由从所述显示区延伸至所述非显示区的所述功能层的第一阴影宽度确定,所述第一阴影宽度为在预设区域内蒸镀所述功能层的情况下,在所述预设区域内形成的阴影区的宽度最大值;利用所述第一掩膜板形成所述功能层。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 显示基板的制造方法和掩膜板组件

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