申请/专利权人：三菱瓦斯化学株式会社

申请日：2019-06-24

公开（公告）日：2021-02-23

公开（公告）号：CN112400138A

主分类号：G03F7/11(20060101)

分类号：G03F7/11(20060101);C08F2/48(20060101);C08F4/04(20060101);C08F4/38(20060101);C08F22/40(20060101);G03F7/20(20060101);G03F7/26(20060101);H01L21/027(20060101);C08F220/28(20060101)

优先权：["20180626 JP 2018-120815"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.06.01#实质审查的生效;2021.02.23#公开

摘要：本发明的课题在于，提供：可应用湿式工艺、对用于形成耐热性、耐蚀刻性、向台阶基板的埋入特性及膜的平坦性优异的光致抗蚀剂下层膜有用的光刻用膜形成材料等。前述课题可以通过含有具有下述式0的基团的化合物的光刻用膜形成材料而解决。

主权项：1.一种光刻用膜形成材料，其包含具有下述式0的基团的化合物：

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三菱瓦斯化学株式会社 光刻用膜形成材料、光刻用膜形成用组合物、光刻用下层膜和图案形成方法

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