申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2019-07-08

公开（公告）日：2021-02-23

公开（公告）号：CN112400215A

主分类号：H01L21/027(20060101)

分类号：H01L21/027(20060101);B05C11/08(20060101)

优先权：["20180718 JP 2018-135035"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.05.07#实质审查的生效;2021.02.23#公开

摘要：目的在于防止在显影处理后的处理对象基板的中央附近产生大量缺陷。对处理对象基板W进行显影处理的显影处理装置30具有：旋转保持部120，其保持处理对象基板W并使其旋转；喷出部132，其向所述旋转保持部120所保持的处理对象基板W喷出与所述显影处理相关的预先决定的液体；以及除电部150，其向被喷出到所述旋转保持部120所保持的处理对象基板W的所述预先决定的液体供给被X射线离子化所得到的离子，来对该预先决定的液体进行除电。

主权项：1.一种显影处理装置，用于对处理对象基板进行显影处理，其该显影处理装置具有：旋转保持部，其保持处理对象基板并使其旋转；喷出部，其向所述旋转保持部所保持的处理对象基板喷出与所述显影处理相关的预先决定的液体；以及除电部，其向被喷出到所述旋转保持部所保持的处理对象基板的所述预先决定的液体供给被X射线离子化所得到的离子，来对该预先决定的液体进行除电。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 显影处理装置以及显影处理方法

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