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【发明公布】支承单元、包括支承单元的基板处理设备及基板处理方法_细美事有限公司_202010817359.3 

申请/专利权人:细美事有限公司

申请日:2020-08-14

公开(公告)日:2021-02-23

公开(公告)号:CN112397418A

主分类号:H01L21/67(20060101)

分类号:H01L21/67(20060101);H01L21/687(20060101)

优先权:["20190814 KR 10-2019-0099574"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2021.08.27#实质审查的生效;2021.02.23#公开

摘要:本发明概念提供一种用于支承基板的支承单元。该支承单元包括:支承板,其具有内部空间并且该支承板上放置有基板;加热构件,其设置在内部空间中并且加热放置在该支承板上的基板;隔热板,其设置在内部空间中并且安置在该加热构件的下方;反射板,其设置在内部空间中并且安置在该隔热板的下方;以及散热板,其设置在内部空间中并且安置在该反射板的下方。

主权项:1.一种用于处理基板的设备,所述设备包括:支承单元,其被配置为支承所述基板;以及液体供应单元,其被配置为将处理液体供应到支承在所述支承单元上的所述基板,其中,所述支承单元包括:支承板,其上放置有所述基板;加热构件,其安置在所述支承板的内部并且被配置为加热放置在所述支承板上的所述基板;隔热板,其设置在所述支承板的内部并且安置在所述加热构件的下方;反射板,其设置在所述支承板的内部并且安置在所述隔热板的下方;以及散热板,其设置在所述支承板的内部并且安置在所述反射板的下方。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 细美事有限公司 支承单元、包括支承单元的基板处理设备及基板处理方法

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