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【实用新型】供料装置及具有其的设备_苏州清越光电科技股份有限公司_202020898070.4 

申请/专利权人:苏州清越光电科技股份有限公司

申请日:2020-05-25

公开(公告)日:2021-02-26

公开(公告)号:CN212610867U

主分类号:C23C14/22(20060101)

分类号:C23C14/22(20060101);C23C14/14(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.02.26#授权

摘要:本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体涉及一种供料装置及具有其的设备。供料装置包括:供料机构上设有储存槽;传递机构设于储存槽下,具有打开储存槽的开口状态及堵塞储存槽的关闭状态;输送装置设有容纳腔;第一驱动装置与供料机构连接,适于驱动供料机构运动,使其中具有开口状态的储存槽与容纳腔相对设置;第二驱动装置与输送装置连接,适于驱动输送装置运动,使其具有容纳腔的接料状态及容纳腔远离的运料状态;且输送装置处于接料状态时与供料机构接触。通过设置输送装置处于接料状态时与供料机构接触,使得第二驱动装置驱动输送装置向储存槽运动时,输送装置对供料机构进行碰撞,使供料机构震动,增大产品从储存槽向下掉落的几率。

主权项:1.一种供料装置,其特征在于,包括:供料机构,其上设有若干储存槽1,适于放置产品;传递机构,设于所述储存槽1的下方,具有打开所述储存槽1的开口状态,及堵塞所述储存槽1的关闭状态;输送装置,设有容纳腔3;第一驱动装置,与所述供料机构连接,适于驱动所述供料机构运动,使其中至少一个具有开口状态的储存槽1与所述容纳腔3相对设置;第二驱动装置,与所述输送装置连接,适于驱动所述输送装置运动,以使所述输送装置具有所述容纳腔3设于所述开口状态的储存槽1下方的接料状态,以及所述容纳腔3远离所述储存槽1的运料状态;且所述输送装置处于所述接料状态时与所述供料机构接触。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州清越光电科技股份有限公司 供料装置及具有其的设备

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