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【发明公布】套刻误差检测图形及方法_长江存储科技有限责任公司_202011472159.5 

申请/专利权人:长江存储科技有限责任公司

申请日:2020-12-15

公开(公告)日:2021-04-06

公开(公告)号:CN112612185A

主分类号:G03F7/20(20060101)

分类号:G03F7/20(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.11.22#授权;2021.04.23#实质审查的生效;2021.04.06#公开

摘要:本发明提供一种套刻误差检测图形及方法。包括第一图形及第二图形,形成于上下叠置的两个膜层上,第一图形和第二图形上下对应设置且中心点位于同一垂线上;第一图形包括单个第一矩形图案,第二图形包括单个或多个第二矩形图案,第一矩形图案的长边与短边的比值小于第二矩形图案的长边与短边的比值,第二矩形图案的中间部分沿垂直第一矩形图案方向的正投影落在第一矩形图案内,与中间部分相连接的两端的正投影位于第一矩形图形外。本发明在实现量测目的的前提下可以减少图形占用的平面面积,这使得其可以分布于晶粒中,因而其切割道filmstack与晶粒内器件更加接近,可以有效减小套刻误差,提高生产良率和降低生产成本。

主权项:1.一种套刻误差检测图形,其特征在于,所述套刻误差检测图形包括第一图形及第二图形,所述第一图形和第二图形形成于上下叠置的两个膜层上,所述第一图形和第二图形上下对应设置且中心点位于同一垂线上;所述第一图形包括单个第一矩形图案,所述第二图形包括单个或多个第二矩形图案,当第二矩形图案为多个时,多个第二矩形图案平行间隔分布;其中,所述第一矩形图案的长边与短边的比值小于所述第二矩形图案的长边与短边的比值,第二矩形图案的中间部分沿垂直所述第一矩形图案方向的正投影落在所述第一矩形图案内,与中间部分相连接的两端的正投影位于所述第一矩形图形外。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 长江存储科技有限责任公司 套刻误差检测图形及方法

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