申请/专利权人:联华电子股份有限公司
申请日:2019-10-08
公开(公告)日:2021-04-09
公开(公告)号:CN112635560A
主分类号:H01L29/78(20060101)
分类号:H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.12.05#授权;2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开
摘要:本发明公开一种鳍状晶体管结构及其制造方法。鳍状晶体管结构包括第一基板。绝缘层设置在所述第一基板上。多个鳍状结构设置在所述绝缘层上。支撑介电层在所述多个鳍状结构的腰部位置将所述多个鳍状结构固定。栅极结构层,设置在所述支撑介电层上以及覆盖所述多个鳍状结构的一部分。
主权项:1.一种鳍状晶体管结构,其特征在于,该鳍状晶体管结构包括:第一基板;绝缘层,设置在所述第一基板上;多个鳍状结构,设置在所述绝缘层上;支撑介电层,在所述多个鳍状结构的腰部位置将所述多个鳍状结构固定;以及栅极结构层,设置在所述支撑介电层上以及覆盖所述多个鳍状结构的一部分。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 联华电子股份有限公司 鳍状晶体管结构及其制造方法
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