申请/专利权人：国立研究开发法人产业技术综合研究所

申请日：2019-05-31

公开（公告）日：2021-04-09

公开（公告）号：CN112638842A

主分类号：C04B35/64(20060101)

分类号：C04B35/64(20060101);B32B18/00(20060101);C23C24/02(20060101)

优先权：["20180608 JP 2018-110527"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开

摘要：本发明提供一种高密度氧化物陶瓷结构体，该高密度氧化物陶瓷结构体不需要现有技术中的为了制造高密度氧化物陶瓷结构体需要的烧结处理、在真空或减压下的工艺、原料微粒的破碎、粘结剂的使用等，并且能够抑制伴随着这些而来的晶体中的缺陷以及内应力的产生。本发明提供一种具有脆性材料粒子的脆性材料结构体，该脆性材料结构体夹着所述脆性材料粒子之间的接合界面，并且具有宽40nm以下的脆性材料粒子的晶格流动层。

主权项：1.一种具有脆性材料粒子的脆性材料结构体，其特征在于，所述脆性材料结构体夹着脆性材料粒子之间的接合界面，并且具有宽40nm以下的脆性材料粒子的晶格流动层。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 国立研究开发法人产业技术综合研究所 脆性材料结构体

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