申请/专利权人:氢记忆技术股份有限公司
申请日:2019-07-12
公开(公告)日:2021-04-09
公开(公告)号:CN112638503A
主分类号:B01D53/22(20060101)
分类号:B01D53/22(20060101);C01B3/02(20060101);B01D63/08(20060101);B01D67/00(20060101);B01D69/12(20060101)
优先权:["20180712 GB 1811436.3"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开
摘要:本文公开的是气体分离部分,用于在分离装置中从一种或多种其他气体中分离出第一气体,所述气体分离部分包括:基本上为平面的第一膜;基本上为平面的第二膜;第一基板,所述第一基板具有第一表面和第二表面,其中,所述第一基板的所述第二表面与所述第一基板的所述第一表面在所述第一基板上的相反的一侧;第二基板,所述第二基板具有第一表面和第二表面,其中,所述第二基板的所述第二表面与所述第二基板的所述第一表面在所述第二基板上的相反的一侧;以及网状物,所述网状物设置在所述第一基板的所述第二表面和所述第二基板的所述第二表面之间;其中:所述第一基板和所述第二基板是烧结板;所述第一膜位于所述第一基板的所述第一表面上;所述第二膜位于所述第二基板的所述第一表面上;所述第一膜和所述第二膜均可透过至少第一气体,且不可透过一种或多种其他气体;所述第一膜在垂直于所述第一膜的平面的方向上的厚度小于10微米;所述第二膜在垂直于所述第二膜的平面的方向上的厚度小于10微米。实施方案提供了优于已知技术的改进的气体分离装置。根据实施方案,分离装置的优点包括改善的性能,易于实施,模块化设计和可扩展的设计。
主权项:1.气体分离部分,用于在分离装置中从一种或多种其他气体中分离出第一气体,所述气体分离部分包括:基本为平面的第一膜;基本为平面的第二膜;第一基板,所述第一基板具有第一表面和第二表面,其中,所述第一基板的所述第二表面与所述第一基板的所述第一表面在所述第一基板上的相反的一侧;第二基板,所述第二基板具有第一表面和第二表面,其中,所述第二基板的所述第二表面与所述第二基板的所述第一表面在所述第二基板上的相反的一侧;以及网状物,所述网状物设置在所述第一基板的所述第二表面和所述第二基板的所述第二表面之间;其中:所述第一基板和所述第二基板是烧结板;所述第一膜位于所述第一基板的所述第一表面上;所述第二膜位于所述第二基板的所述第一表面上;所述第一膜和所述第二膜均可透过至少第一气体,且不可透过一种或多种其他气体;所述第一膜在垂直于所述第一膜的平面的方向上的厚度小于10微米;所述第二膜在垂直于所述第二膜的平面的方向上的厚度小于10微米。
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权利要求:
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