【发明公布】一种液晶显示面板、薄膜晶体管及其制备方法_北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司_202011639252.0 

申请/专利权人:北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司

申请日:2020-12-31

发明/设计人:夏玉明;卓恩宗;康报虹

公开(公告)日:2021-04-09

代理机构:深圳中一专利商标事务所

公开(公告)号:CN112635574A

代理人:高星

主分类号:H01L29/786(20060101)

地址:536000 广西壮族自治区北海市工业园区北海大道东延线336号广西惠科科技有限公司二期A座4楼A-430室

分类号:H01L29/786(20060101);H01L21/336(20060101);G02F1/1368(20060101);G02F1/1362(20060101);G03F1/80(20120101)

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2021.04.09#公开

摘要:本申请适用于显示技术领域,提供了一种液晶显示面板、薄膜晶体管及其制备方法,通过在第一道光罩制程中,制备包括第一氮化物导电层、金属层和第二氮化物导电层的源漏极层及光刻胶层;和或,在第二道光罩制程中,将第二次湿刻的持续时间缩短为85S~95S;和或,在第二道光罩制程中,将第二次干刻的持续时间延长为40S~50S,可以有效减小接触层的拖尾大小、增大栅极层和漏源极层之间的通道长度和沟道区域的长度,使薄膜晶体管的关态电流正常,提高基于该薄膜晶体管实现的液晶显示面板的可靠性降低,降低产生画面异常的概率。

主权项:1.一种薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,包括:在第一道光罩制程中,在玻璃基板层制备栅极层并图形化栅极层;在栅极层远离玻璃基板层的一面制备栅极绝缘层、有源层、接触层、源漏极层及光刻胶层;在第二道光罩制程中,对光刻胶层进行曝光显影;进行第一次湿刻,图形化源漏极层,形成源漏极区域和有源区域的金属导线结构;进行第一次干刻,图形化有源层和接触层,形成有源层和接触层的岛状结构;进行氧气灰化,降低光刻胶层的厚度以露出沟道区域的源漏极层;进行第二次湿刻,图形化漏源极层;进行第二次干刻,刻蚀有源层和接触层,形成薄膜晶体管结构;其中,源漏极层包括第一氮化物导电层、金属层和第二氮化物导电层;和或,第二次湿刻的持续时间为85S~95S;和或,第二次干刻的持续时间为40S~50S。

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