申请/专利权人：株式会社斯库林集团

申请日：2020-08-27

公开（公告）日：2021-04-09

公开（公告）号：CN112631089A

主分类号：G03F7/42(20060101)

分类号：G03F7/42(20060101);H01L21/027(20060101);H01L21/687(20060101);H01J37/32(20060101)

优先权：["20190924 JP 2019-172560"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开

摘要：本发明提供一种能够有效率地进行利用了处理液的氧化力的基板处理的基板处理方法以及基板处理装置。在基板SB上形成含有硫酸、硫酸盐、过氧硫酸及过氧硫酸盐中的至少任一种的处理液或含有过氧化氢的处理液的液膜LQ。对液膜LQ照射等离子体PL。

主权项：1.一种基板处理方法，包括：在基板上形成含有硫酸、硫酸盐、过氧硫酸及过氧硫酸盐中的至少任一种的处理液或含有过氧化氢的处理液的液膜的工序；以及向所述液膜照射等离子体的工序。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社斯库林集团 基板处理方法以及基板处理装置

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