申请/专利权人：纽富来科技股份有限公司

申请日：2019-07-19

公开（公告）日：2021-04-09

公开（公告）号：CN112640045A

主分类号：H01L21/205(20060101)

分类号：H01L21/205(20060101);C23C16/455(20060101)

优先权：["20180824 JP 2018-157826"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开

摘要：实施方式的气相生长装置具备：反应室；第一气体室，设置于反应室之上，被导入第一工艺气体；以及多个第一气体流路，从第一气体室向反应室供给第一工艺气体，多个第一气体流路中的至少1个第一气体流路具有第一区域和位于第一区域与反应室之间的第二区域，第一区域具有与第一工艺气体的流动方向垂直的面中的第一开口截面积和上述方向的第一长度，第二区域具有与上述方向垂直的面中的第二开口截面积和上述方向的第二长度，第一开口截面积比第二开口截面积小，第一长度为第二长度以下。

主权项：1.一种气相生长装置，具备：反应室；第一气体室，设置于所述反应室之上，被导入第一工艺气体；以及多个第一气体流路，从所述第一气体室向所述反应室供给所述第一工艺气体，所述多个第一气体流路中的至少1个第一气体流路具有第一区域和位于所述第一区域与所述反应室之间的第二区域，所述第一区域具有与所述第一工艺气体的流动方向垂直的面中的第一开口截面积和所述方向的第一长度，所述第二区域具有与所述方向垂直的面中的第二开口截面积和所述方向的第二长度，所述第一开口截面积比所述第二开口截面积小，所述第一长度为所述第二长度以下。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 纽富来科技股份有限公司 气相生长装置

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