申请/专利权人：ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司

申请日：2019-08-22

公开（公告）日：2021-04-09

公开（公告）号：CN112639624A

主分类号：G03F9/00(20060101)

分类号：G03F9/00(20060101);G02B6/12(20060101)

优先权：["20180829 US 62/724,198"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开

摘要：一种用于确定衬底的对准的设备和系统，其中，利用空间相干辐射照射周期性对准标记，然后将所述空间相干辐射照射提供给紧凑集成光学器件以创建对准标记的自身图像，该图像可以被操纵例如进行镜像、偏振和合并以获取与标记位置和标记内变形有关的信息。还公开了一种用于确定衬底的对准的系统，其中，利用空间相干辐射照射周期性对准标记，然后将所述空间相干辐射照射提供给光纤布置以获得诸如标记的位置和标记内的变形之类的信息。

主权项：1.一种用于感测包括在衬底上的光栅的对准图案的设备，所述设备包括：至少一个光源，用于生成第一相干辐射束和第二相干辐射束，所述第一相干辐射束从第一角度照射所述光栅的一部分，所述第二相干辐射束从第二角度照射所述光栅的所述部分，所述第一相干辐射束和第二相干辐射束被所述光栅的所述部分衍射；以及多模干涉装置，包括：第一输入端口，被布置为接收由所述光栅部分来衍射的所述第一相干辐射束的正衍射阶和所述第二相干辐射束的正衍射阶；第二输入端口，被布置为接收由所述光栅部分来衍射的所述第一相干辐射束的负衍射阶和所述第二相干辐射束的负衍射阶；第一输出端口，被布置为输出第一空间叠置图像，所述第一空间叠置图像包括被所述第一相干辐射束照射的所述光栅部分的图像和被所述第二相干辐射束照射的所述光栅部分的镜像；和第二输出端口，被布置为输出第二空间叠置图像，所述第二空间叠置图像包括被所述第二相干辐射束照射的所述光栅部分的图像和被所述第一相干辐射束照射的所述光栅部分的镜像。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司 紧凑型对准传感器布置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD