申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2019-07-31

公开（公告）日：2021-04-09

公开（公告）号：CN112639622A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101);G01N21/47(20060101);G01N21/956(20060101)

优先权：["20180904 EP 18192442.4","20190115 EP 19151907.3"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开

摘要：一种用于确定衬底上的结构的关注的特性的量测设备，所述量测设备包括：辐射源，所述辐射源用于产生照射辐射；至少两个照射分支，所述至少两个照射分支用于照射所述衬底上的所述结构，所述照射分支被配置成从不同角度照射所述结构；以及辐射切换器，所述辐射切换器被配置成接收所述照射辐射并且将所述照射辐射的至少一部分转移至所述至少两个照射分支中的可选的一个照射分支。

主权项：1.一种用于确定衬底上的结构的关注的特性的量测设备，所述量测设备包括：-辐射源，所述辐射源用于产生照射辐射；-至少两个照射分支，所述至少两个照射分支用于照射所述衬底上的所述结构，所述照射分支被配置成从不同角度照射所述结构；以及-辐射切换器，所述辐射切换器被配置成接收所述照射辐射并且将所述照射辐射的至少一部分转移至所述至少两个照射分支中的可选的一个照射分支，其中所述辐射切换器包括：普克尔盒，所述普克尔盒被配置成控制所述照射辐射的偏振方向并且输出偏振受控的照射辐射，和偏振分束器，所述偏振分束器在光学上位于所述普克尔盒的下游，且被配置成根据所述偏振受控的照射辐射的所述偏振方向来将所述偏振受控的照射辐射透射至所述至少两个照射分支中的第一照射分支或将所述偏振受控的照射辐射反射至所述照射分支中的第二照射分支。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 量测设备

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