申请/专利权人：琳得科株式会社

申请日：2016-03-25

公开（公告）日：2021-04-09

公开（公告）号：CN112625609A

主分类号：C09J7/20(20180101)

分类号：C09J7/20(20180101);C09J7/30(20180101);B32B27/30(20060101);B32B27/20(20060101);B32B27/06(20060101);B32B9/00(20060101);B32B9/04(20060101);B32B33/00(20060101);B32B27/26(20060101);C09J11/04(20060101);C09J133/12(20060101);C09J163/02(20060101);C09J163/00(20060101);C09J11/06(20060101);H01L21/301(20060101)

优先权：["20150330 JP 2015-069795"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.11.08#授权;2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开

摘要：本发明提供再剥离性优异的树脂膜形成用片、以及具有该树脂膜形成用片和支撑体直接叠层而成的结构的树脂膜形成用复合片，所述树脂膜形成用片是粘贴于硅晶片、用于在该硅晶片上形成树脂膜的片，其中，待与硅晶片粘贴一侧的该片的表面α的表面粗糙度Ra为40nm以上。

主权项：1.一种树脂膜形成用片，其是粘贴于硅晶片、用于在该硅晶片上形成树脂膜的片，其中，相对于所述树脂膜形成用片的总量，包含10～51.1质量％的填充材料C，待与硅晶片粘贴一侧的该片的表面α的表面粗糙度Ra为40nm以上，所述表面粗糙度是使用光干涉式表面形状测定装置、利用PSI模式、以倍率10倍对测定对象的表面进行测定而得到的。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 琳得科株式会社 树脂膜形成用片及树脂膜形成用复合片

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