申请/专利权人：昆山国显光电有限公司

申请日：2020-12-14

公开（公告）日：2021-04-09

公开（公告）号：CN112626452A

主分类号：C23C14/04(20060101)

分类号：C23C14/04(20060101);C23C14/24(20060101);C23C14/12(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.05.23#授权;2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开

摘要：本发明涉及一种掩膜结构，包括：掩膜框架，包括围合形成有中空部的框架本体，框架本体具有相背的支撑面和背面，框架本体上开设有由支撑面向背面下沉的下沉部，下沉部具有与背面相交设置的斜面；对位掩膜板，设置于支撑面，对位掩膜板开设有间隔设置且分别与下沉部连通的对位孔以及辅助孔，其中，沿垂直于背面的第一方向，对位孔以及辅助孔的正投影均位于下沉部的正投影内且斜面的正投影覆盖对位孔的正投影设置。本发明实施例提供的掩膜结构，在清洗时，能够减少药液残留，保证蒸镀机对对位孔位置区的对位抓取精度，降低误抓风险。

主权项：1.一种掩膜结构，其特征在于，包括：掩膜框架，包括围合形成有中空部的框架本体，所述框架本体具有相背设置的支撑面和背面，所述框架本体上开设有由所述支撑面向所述背面下沉的下沉部，所述下沉部具有与所述背面相交设置的斜面；对位掩膜板，设置于所述支撑面，所述对位掩膜板开设有间隔设置且分别与所述下沉部连通的对位孔以及辅助孔，其中，沿垂直于所述背面的第一方向，所述对位孔以及所述辅助孔的正投影均位于所述下沉部的正投影内且所述斜面的正投影覆盖所述对位孔的正投影设置。

全文数据：

权利要求：

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