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【发明公布】半导体处理装置_长鑫存储技术有限公司_201910953977.8 

申请/专利权人:长鑫存储技术有限公司

申请日:2019-10-09

公开(公告)日:2021-04-13

公开(公告)号:CN112652548A

主分类号:H01L21/67(20060101)

分类号:H01L21/67(20060101);H01L21/677(20060101)

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2021.04.30#实质审查的生效;2021.04.13#公开

摘要:本发明涉及一种半导体处理装置,包括净化区域和设置于所述净化区域侧边的晶圆暂存区,所述净化区域包括进气装置和排气装置,所述晶圆暂存区包括排气端、压力监测装置及气体控制装置;所述压力监测装置设置在所述排气端,用于检测所述排气端的排气压力;所述气体控制装置连接所述晶圆暂存区,并与所述压力监测装置通信连接,用于根据所述压力监测装置的信号控制输入所述晶圆暂存区的气体。上述的半导体处理装置,使得气体的流动能够带走晶圆表面残留的气体,从而能够防止晶圆暂存区的晶圆发生凝结现象。

主权项:1.一种半导体处理装置,包括净化区域和设置于所述净化区域侧边的晶圆暂存区,所述净化区域包括进气装置和排气装置,所述晶圆暂存区包括排气端,其特征在于,所述处理装置还包括:压力监测装置,所述压力监测装置设置在所述排气端,用于检测所述排气端的排气压力;及气体控制装置,所述气体控制装置连接所述晶圆暂存区,并与所述压力监测装置通信连接,用于根据所述压力监测装置的信号控制输入所述晶圆暂存区的气体。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 长鑫存储技术有限公司 半导体处理装置

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