申请/专利权人：天马日本株式会社

申请日：2020-10-09

公开（公告）日：2021-04-13

公开（公告）号：CN112649371A

主分类号：G01N21/17(20060101)

分类号：G01N21/17(20060101);G01N21/21(20060101)

优先权：["20191011 JP 2019-187428"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.05.06#实质审查的生效;2021.04.13#公开

摘要：一种磁光测量设备，包括：光源；薄膜传感器，其包括磁性膜并且反射来自光源的光；磁场产生装置，其对薄膜传感器施加磁场；以及控制器。磁场产生装置被配置为向薄膜传感器交替地提供正磁场和负磁场。控制器被配置为：测量在正磁场下被薄膜传感器反射的光量；测量在负磁场下被薄膜传感器反射的光量；根据在正磁场下测量的值和在负磁场下测量的值，确定一个或多个回归公式；以及基于一个或多个回归公式确定特定输出值。

主权项：1.一种磁光测量设备，包括：光源；薄膜传感器，所述薄膜传感器包括磁性膜并且被配置为反射来自所述光源的光；磁场产生装置，所述磁场产生装置被配置为对所述薄膜传感器施加磁场；以及控制器，其中，所述磁场产生装置被配置为向所述薄膜传感器交替地提供正磁场和负磁场，以在所述磁性膜中交替地引起幅度相等但方向相反的正磁化和负磁化，并且其中，所述控制器被配置为：在所述正磁场下在多个时刻测量被所述薄膜传感器反射的光量；在所述负磁场下在多个时刻测量被所述薄膜传感器反射的光量；根据在所述正磁场下在所述多个时刻测量的值和在所述负磁场下在所述多个时刻测量的值，确定一个或多个回归公式；以及基于所述一个或多个回归公式确定特定输出值。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 天马日本株式会社 磁光测量设备

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