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【发明公布】用于缺陷分类的多波长干涉法_科磊股份有限公司_201980057650.0 

申请/专利权人:科磊股份有限公司

申请日:2019-08-29

公开(公告)日:2021-04-13

公开(公告)号:CN112654859A

主分类号:G01N21/88(20060101)

分类号:G01N21/88(20060101);G01B9/02(20060101)

优先权:["20180904 US 62/726,782","20190826 US 16/551,155"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.05.13#授权;2021.09.03#实质审查的生效;2021.04.13#公开

摘要:一种检验系统可包含耦合到差分干涉对比成像工具的控制器,所述差分干涉对比成像工具用于基于两个经剪切照明光束的照明产生样本的图像。所述控制器可基于所述样本上的缺陷的第一图像集确定第一缺陷诱发相移,所述第一图像集具有第一选定照明光谱及所述两个经剪切照明光束之间的两个或更多个选定诱发相差;基于所述缺陷的第二图像集确定第二缺陷诱发相移,所述第二图像集具有第二选定照明光谱及所述两个经剪切照明光束之间的两个或更多个选定诱发相差;及基于所述第一相移与所述第二相移的比较将所述缺陷分类为金属或非金属。

主权项:1.一种检验系统,其包括:控制器,其通信地耦合到差分干涉对比成像工具,所述差分干涉对比成像工具经配置以基于两个经剪切照明光束的照明产生样本的一或多个图像,其中所述两个经剪切照明光束的照明光谱及所述两个经剪切照明光束之间的诱发相差可针对所述样本的任何特定图像来选择,其中所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器,所述程序指令致使所述一或多个处理器:接收所述样本上的缺陷的第一图像集,所述第一图像集具有第一选定照明光谱及所述两个经剪切照明光束之间的两个或更多个选定诱发相差;基于所述第一选定照明光谱确定第一缺陷诱发相移;接收所述样本上的缺陷的第二图像集,所述第二图像集具有不同于所述第一照明光谱的第二选定照明光谱及所述两个经剪切照明光束之间的两个或更多个选定诱发相差;基于所述第二选定照明光谱确定第二缺陷诱发相移;及基于所述第一相移与所述第二相移的比较将所述缺陷分类为金属或非金属。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 科磊股份有限公司 用于缺陷分类的多波长干涉法

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