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【发明公布】光学测量装置以及光学测量方法_欧姆龙株式会社_201980058003.1 

申请/专利权人:欧姆龙株式会社

申请日:2019-10-21

公开(公告)日:2021-04-13

公开(公告)号:CN112654834A

主分类号:G01C3/06(20060101)

分类号:G01C3/06(20060101);G01B11/00(20060101)

优先权:["20181108 JP 2018-210436"]

专利状态码:失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态:2023.10.27#发明专利申请公布后的驳回;2021.04.30#实质审查的生效;2021.04.13#公开

摘要:本发明自受光量分布信号获得测定波形信号。光学测量装置100包括:光源10,向对象物TA发出光;受光部40,以多个像素各自可检测受光量的方式构成,且获得每个像素的受光量分布信号;获取部51,基于不存在对象物TA时的受光量分布信号,自利用对象物TA所反射的反射光的受光量分布信号获取测量波形信号MS;以及调整部53,在反射光的受光量分布信号的一部分受光量为规定值以上时,以获取测量波形信号MS的方式,调整对于反射光的受光量分布信号的感度参数。

主权项:1.一种光学测量装置,其特征在于,包括:投光部,向对象物发出光;受光部,以多个像素各自能够检测受光量的方式构成,且获得所述每个像素的受光量分布信号;获取部,基于不存在所述对象物时的所述受光量分布信号,自利用所述对象物所反射的反射光的所述受光量分布信号获取测量波形信号;以及调整部,在所述反射光的所述受光量分布信号的一部分受光量为规定值以上时,以获取所述测量波形信号的方式,调整对于所述反射光的所述受光量分布信号的感度参数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 欧姆龙株式会社 光学测量装置以及光学测量方法

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