申请/专利权人:武汉科技大学
申请日:2020-12-22
公开(公告)日:2021-04-13
公开(公告)号:CN112644178A
主分类号:B41J2/14(20060101)
分类号:B41J2/14(20060101);B41J2/175(20060101);B41J3/54(20060101);B41J2/06(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2022.06.28#授权;2021.04.30#实质审查的生效;2021.04.13#公开
摘要:本发明公开了一种可抑制射流干扰的直列式电流体打印喷头及打印方法,包括可封闭的用于承纳导电性打印溶液的墨盒,电压输入连接件与所述墨盒连接;位于墨盒下方对墨盒主体进行支撑的支撑主体;呈直线阵列固定在支撑主体上且在支撑主体下方形成锥射流的至少一个喷嘴组件;位于喷嘴组件下方间隔设置的接地基板,在基板和喷嘴组件末端之间悬置设置导引电极环。能够避免多个喷嘴射流与射流之间易存在的静电干扰,使得打印到基板上的图案尺寸更小、精度更高,同时能够显著提高打印效率。
主权项:1.一种可抑制射流干扰的直列式电流体打印喷头,其特征在于包括:可封闭的用于承纳导电性打印溶液的墨盒,电压输入连接件(700)与所述墨盒连接;所述墨盒包括可扣合地连接的墨盒顶盖(100)和墨盒主体(200);位于墨盒下方对墨盒主体(200)进行支撑的支撑主体(300);呈直线阵列式固定于支撑主体(300)上且在支撑主体300下方形成锥射流的至少一个喷嘴组件(400);位于喷嘴组件(400)下方间隔设置的接地基板(600),在基板(600)和喷嘴组件(400)末端之间悬置设置导引电极环(500)。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 武汉科技大学 可抑制射流干扰的直列式电流体打印喷头及打印方法
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