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【发明授权】无机氧化物被膜形成用涂布液、无机氧化物被膜及显示器件_日产化学工业株式会社_201380064515.1 

申请/专利权人:日产化学工业株式会社

申请日:2013-10-10

公开(公告)日:2021-04-13

公开(公告)号:CN104854509B

主分类号:G03F7/075(20060101)

分类号:G03F7/075(20060101);C01B33/12(20060101);C04B35/622(20060101);C09D183/06(20060101);C09D183/07(20060101);C09D185/00(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/028(20060101);G06F3/041(20060101)

优先权:["20121011 JP 2012-226156"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.04.13#授权;2015.09.16#实质审查的生效;2015.08.19#公开

摘要:本发明提供适于形成能进行图案化的金属氧化物被膜的金属氧化物被膜形成用涂布液、使用该涂布液而形成的金属氧化物被膜、以及具备该金属氧化物被膜的可靠性优异的显示器件。金属氧化物被膜形成用涂布液包含结构中含有双键的金属醇盐、以及含有光聚合引发剂的感光性聚合物。

主权项:1.金属氧化物被膜形成用涂布液,其特征在于,包含作为硅醇盐或其部分缩合物与钛醇盐的混合物的第1金属醇盐、下述式II表示的结构中具有双键的第2金属醇盐或其部分缩合物、下述式III表示的金属盐、以及含有通过共价键被导入感光性聚合物中的光聚合引发剂的感光性聚合物,所述第2金属醇盐或其部分缩合物的含量相对于全部金属醇盐或其部分缩合物为25摩尔%以上,且含有光聚合引发剂的所述感光性聚合物的含量相对于金属固体成分为20重量%以上,R2mSiOR34-mIIR2是选自乙烯基、苯乙烯基、及被丙烯酰基、或甲基丙烯酰基取代的碳数1~30的烷基的有机基;R3表示碳数1~5的烷基或乙酰基;m为1~3的整数;M2Xk或M2的草酸盐IIIM2表示选自铝、铟、锌、锆、铋、镧、钽、钇及铈的至少1种金属;X表示盐酸、硝酸、硫酸、乙酸、氨基磺酸、磺酸、乙酰乙酸或乙酰丙酮的残基、或它们的碱式盐;k表示M2的价数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 日产化学工业株式会社 无机氧化物被膜形成用涂布液、无机氧化物被膜及显示器件

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