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【发明公布】磁传感器及其制造方法、以及磁检测装置和磁检测系统_TDK株式会社_202011108663.7 

申请/专利权人:TDK株式会社

申请日:2020-10-16

公开(公告)日:2021-04-27

公开(公告)号:CN112710973A

主分类号:G01R33/09(20060101)

分类号:G01R33/09(20060101);G01N27/74(20060101);G01N33/543(20060101)

优先权:["20191024 JP 2019-193629"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.02.06#授权;2021.05.14#实质审查的生效;2021.04.27#公开

摘要:用于检测试样中的检测对象物质的磁传感器包括:具有第一面和与第一面相对的第二面的基板;设置在基板的第一面上且电阻值根据输入磁场而变化的磁阻效应元件;和覆盖在磁阻效应元件上的保护层。位于磁阻效应元件上的保护层的表面具有规定的表面粗糙度。

主权项:1.一种磁传感器,其是用于检测试样中的检测对象物质的磁传感器,该磁传感器的特征在于,包括:基板,其具有第一面和与所述第一面相对的第二面;磁阻效应元件,其设置在所述基板的所述第一面上,其电阻值根据输入磁场而变化;和保护层,其覆盖在所述磁阻效应元件上,位于所述磁阻效应元件上的所述保护层的表面具有规定的表面粗糙度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: TDK株式会社 磁传感器及其制造方法、以及磁检测装置和磁检测系统

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