申请/专利权人：ASM IP私人控股有限公司

申请日：2020-10-23

公开（公告）日：2021-04-27

公开（公告）号：CN112708869A

主分类号：C23C16/455(20060101)

分类号：C23C16/455(20060101)

优先权：["20191025 US 62/925,787"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.10.28#实质审查的生效;2021.04.27#公开

摘要：公开了用于材料在衬底上的均匀受控生长的设备和过程，所述设备和过程将前体的多个脉动流引导到反应器的反应空间中以将薄膜沉积在衬底上。每个脉动流是第一脉动子流和第二脉动子流的组合，其中所述第二脉动子流的脉冲轮廓与所述第一脉动子流的脉冲轮廓的后一半的至少一部分重叠。

主权项：1.一种将薄膜沉积在衬底上的方法，其包括：将前体的多个脉动流引导到反应器的反应空间中以将薄膜沉积在所述衬底上，每个脉动流包括第一脉动子流和第二脉动子流的组合，其中所述第二脉动子流的脉冲轮廓与所述第一脉动子流的脉冲轮廓的后一半的至少一部分重叠以形成组合脉动流。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASM IP私人控股有限公司 膜沉积过程中的常规脉冲轮廓修改

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