申请/专利权人：住友化学株式会社

申请日：2020-10-23

公开（公告）日：2021-04-27

公开（公告）号：CN112711087A

主分类号：G02B5/30(20060101)

分类号：G02B5/30(20060101)

优先权：["20191025 JP 2019-194431"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.09.09#实质审查的生效;2021.04.27#公开

摘要：本发明提供一种能够一边使处理偏振膜的前体的处理溶液充分地保持清洁状态一边制造偏振膜的偏振膜的制造方法及制造装置。一种偏振膜的制造方法，其包含：用第1溶液处理偏振膜的前体的前体处理工序；和使处理偏振膜的前体之后的第1溶液与电极组接触而进行析出处理，由此形成第2溶液的电解处理工序，所述偏振膜的制造方法还包含调节处理偏振膜的前体之后的第1溶液的pH值的第一pH调节工序以及调节第2溶液的pH值的第二pH调节工序中的至少任一工序。

主权项：1.一种偏振膜的制造方法，其包含：用第1溶液处理偏振膜的前体的前体处理工序；和通过使处理所述偏振膜的前体之后的第1溶液与电极组接触而进行析出处理，由此形成第2溶液的电解处理工序，所述偏振膜的制造方法还包含调节处理所述偏振膜的前体之后的第1溶液的pH值的第一pH调节工序以及调节所述第2溶液的pH值的第二pH调节工序中的至少任一工序。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 住友化学株式会社 偏振膜的制造方法及制造装置

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