申请/专利权人：安徽工业大学

申请日：2020-12-22

公开（公告）日：2021-04-27

公开（公告）号：CN112708852A

主分类号：C23C14/06(20060101)

分类号：C23C14/06(20060101);C23C14/32(20060101);C23C14/58(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.12.16#授权;2021.05.14#实质审查的生效;2021.04.27#公开

摘要：本发明公开一种原位高能Ar+刻蚀后处理改善AlCrN涂层刀具性能的方法，包括步骤：清洗基材；制备AlCrN功能涂层；将所述AlCrN功能涂层沉积在处理后的所述基材上；原位高能Ar+轰击后处理；对制备好的AlCrN功能涂层进行原位高能Ar+轰击后处理：沉积镀膜结束后，对所述基材进行抽真空，加工温度保持在400℃并通入Ar气；开启清洗Ti靶后开启阳极靶材，所述阳极靶材与所述清洗Ti靶构成正负极牵引电子运动，电子与Ar气碰撞产生Ar+，控制负偏压为‑200V，吸引Ar+对设置有所述AlCrN功能涂层的所述基材表面进行离子轰击，轰击时间为40min；本发明可有效去除AlCrN涂层表面的大小液滴颗粒，同时增加涂层和基体的残余压应力，改善了AlCrN涂层的表面粗糙度和切削性能。

主权项：1.一种原位高能Ar+刻蚀后处理改善AlCrN涂层刀具性能的方法，其特征在于，包括步骤：S1，清洗基材；S2，制备AlCrN功能涂层；将所述AlCrN功能涂层沉积在所述步骤S1处理后的所述基材上；S3，原位高能Ar+轰击后处理；所述步骤S3中，对所述步骤S2制备好的AlCrN功能涂层进行原位高能Ar+轰击后处理：沉积镀膜结束后，将AlCrN功能涂层留在镀膜室内并对所述功能涂层进行抽真空，加工温度保持在400℃并通入Ar气；开启清洗Ti靶后开启阳极靶材，所述阳极靶材与所述清洗Ti靶构成正负极牵引电子运动，电子与Ar气碰撞产生Ar+，控制负偏压为-200V，吸引Ar+对设置有所述AlCrN功能涂层的所述基材表面进行离子轰击，轰击时间为40min。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 安徽工业大学 一种原位高能Ar+刻蚀后处理改善AlCrN涂层刀具性能的方法

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