申请/专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请日：2016-05-18

公开（公告）日：2021-04-27

公开（公告）号：CN107646087B

主分类号：G01B11/24(20060101)

分类号：G01B11/24(20060101);G01B9/02(20060101);G02B5/08(20060101);G03F7/20(20060101)

优先权：["20150522 DE 102015209490.1"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.04.27#授权;2018.06.15#实质审查的生效;2018.01.30#公开

摘要：本发明涉及干涉式地确定被测装置14的表面12的形状的测量布置10。所述测量布置10包括提供输入波18的光源16和衍射光学元件24。衍射光学元件24适当地设计为从输入波18通过衍射分别产生测试波26和参考波28，该测试波指向被测装置14并且具有至少部分适配于光学表面12的期望的形状的波前。所述测量布置10还包含用于参考波28的背向反射的反射光学元件30、以及在捕获平面48中捕获干涉图的捕获装置36，该干涉图由与被测装置14相互作用后的测试波26和反射的参考波28分别在所述衍射光学元件24处的另一次衍射之后的叠加产生。本发明还涉及确定被测装置14的表面形状的相应方法。

主权项：1.测量布置，所述测量布置干涉式地确定微光刻的光学元件的形式的测试对象的表面的形状，所述测量布置包括：-光源，所述光源提供输入波；-衍射光学元件，所述衍射光学元件布置在所述输入波的束路径中，并且包含衍射结构或两个衍射结构图案以通过就绝对值而言为第一级或更高级的衍射从所述输入波分别产生测试波和参考波，所述测试波指向所述测试对象并且具有至少部分适配于所述光学表面的期望形状的波前，并且所述参考波具有偏离所述测试波的传播方向的传播方向；其中，所述衍射结构配置为在衍射的第一级中产生所述测试波，并且在衍射的其他级数中产生所述参考波，以及其中，所述两个衍射结构图案布置为使得它们在平面中彼此叠加，所述衍射结构图案中的一个配置为产生所述测试波，且所述衍射结构图案的另一个配置为产生所述参考波，-反射光学元件，所述反射光学元件布置在所述参考波的束路径中，并且配置为用于所述参考波的背向反射。-捕获装置，其在捕获平面中捕获干涉图，该干涉图由与所述测试对象相互作用后的所述测试波和所述背向反射的参考波分别在所述衍射光学元件处的进一步衍射后的叠加而产生。

全文数据：干涉式测量布置[0001]本申请要求2015年5月22日的德国专利申请102015209490.1的优先权。此专利申请的全部公开内容通过引用并入本申请中。[0002]发明背景[0003]本发明涉及干涉式地确定测试对象的表面的形状的测量布置和方法。本发明还涉及反射镜的制造方法、具有反射极紫外辐射的表面的反射镜、以及具有这种反射镜的微光刻投射镜头。[0004]为了高精度干涉式测量测试对象如微光刻光学元件）的表面形状，通常使用衍射光学布置用作所谓的零光学器件nulloptics。在这种情况下，测试波的波前通过衍射元件适配于表面的期望形状，使得其可以在每个位置处垂直入射至期望形状上，并且由其自身背向反射。可以通过在反射的测试波上叠加参考波来确定与期望形状的偏差。使用的衍射元件可以是例如计算机生成的全息图（computer-generatedhologram，CGH〇[0005]DE102012217800Al描述了这种具有复杂编码的CGH的测量布置。首先使用Fizeau元件将光波分成参考波和测试波。测试波然后由复杂编码CGH转换为具有适配于表面的期望形状的波前的测试波和具有球面波前或平面波前的校准波。为此，该CGH具有合适配置的衍射结构。校准波用来校准CGH。测试对象继而布置在测试位置中，并且使用测试波进行测量。测试波被测试对象表面反射、经CGH转换回来，在它穿过Fizeau元件之后，该测试波由参考波叠加。可以从在平面中捕获的干涉图确定表面的形状。这里，由于CGH的校准，达到了非常高的精确度。[0006]然而，在使用已知干涉式装置测量高精度表面中的一个问题在于，在校准和随后的对测试对象的测量之间可能发生CGH或干涉仪的其他光学元件的光学特性的变化。这种变化特别是由温度改变而引起。在含有石英基板的CGH的情况下，即使mK范围内的温度变化不均匀也会导致校准后的测量精度降低。[0007]该问题特别是发生在大且重的测试对象的情况下，例如微光刻EUV反射镜。这些测试对象可能仅能缓慢移动到测试位置中。在该过程中，大量的能量且从而热被引入到测量布置中。具有相对于环境的显著更高温度的光学元件的表面也可能仅在测量精度不足的情况下确定。由于曝光辐射的期望功率增加以及光学元件的相关的增加的加热，可以在EUV微光刻中使用这种光学元件。[0008]发明目的[0009]本发明的目的是提供解决前文所述的问题的装置和方法，以及特别是可以高精度地确定大的测试对象或比环境温暖的测试对象的表面形状。发明内容[0010]根据本发明，通过下文的测量布置来实现该目的，以干涉式地确定测试对象的表面的形状。该测量布置包括提供输入波的光源和衍射光学元件，该衍射光学元件布置在输入波的束路径中，并且适当地配置为通过衍射从输入波分别产生测试波和参考波，该测试波指向测试对象，并且具有至少部分适配于光学平面的期望形状的波前，且该参考波具有偏离测试波的传播方向的传播方向。测量装置还包括反射光学元件和捕获装置，该反射光学元件布置在参考波的束路径中，并且配置为用于参考波的背向反射，并且该捕获装置在捕获平面上捕获干涉图，该干涉图由与所述测试对象相互作用后的所述测试波和所述背向反射的参考波分别在所述衍射光学元件处的进一步衍射后的叠加而产生。[0011]该目的还通过下文描述的干涉式地确定测试对象的表面的形状的方法来实现。该方法包括如下步骤:提供输入波;从输入波在衍射光学元件处通过衍射产生测试波和参考波，该测试波指向测试对象，并且具有至少部分适配于光学表面的期望的形状，该参考波指向反射光学元件，并且具有偏离测试波的传播方向的传播方向；将与测试对象相互作用后的测试波和在反射光学元件处背向反射后的参考波叠加，其中测试波和参考波分别在衍射光学元件处再次衍射以进行叠加;然后在捕获平面中捕获由测试波和参考波的叠加产生的干涉图。[0012]术语“衍射”在本文的情景下理解为第一级或更高级的衍射。在本文中，辐射到衍射元件上的波的零级衍射不认为是“由衍射”产生的波。因此，包含在根据本发明的在上文提到的测量布置或根据本发明在上文提到的方法中的衍射光学元件配置为从输入波通过第一级或更高级衍射就绝对值而言产生测试波，同时还通过第一级或更高级衍射就绝对值而言产生参考波。[0013]换而言之，根据本发明的测量布置由干涉仪组成，其中使用作为分束器的衍射光学元件来产生测试波和参考波。为了将测试波的波前适配于测试对象的表面的期望形状，还使用作为零光学器件的衍射元件。用于将输入波分离成测试波和参考波的单独分束器例如Fizeau元件不是必须的。在与测试对象或光学元件相互作用后，使用相同的衍射光学元件将测试波叠加在参考波上。因此，例如由于操作期间的加热引起的衍射元件与期望形状的偏差影响测试波并且也影响参考波。当在测试波上叠加参考波时，尽可能地补偿这些误差。相应的手段用于根据本发明的方法。根据本发明的测量布置和相应方法因此特别适用于测量比环境更温热的测试对象的大的非球面表面。[0014]测试波与测试对象的相互作用可以是反射例如当测试对象是反射镜时），或者是透射例如当测试对象是透镜时）。在后一种情况下，在测试波穿过透镜之后，其优选地在反射镜处被背向反射。[0015]根据实施例，衍射光学元件配置为通过衍射在透射中产生测试波和参考波。替代地，可以使用衍射光学元件通过衍射产生两种波。优选地，在衍射光学元件处产生测试波后，在测试波的束路径中布置测试对象作为下一个光学元件。相应地，在衍射光学元件之后，可以在参考波的束路径中布置反射光学元件作为下一个光学元件。通过这些措施，限定了两个干涉仪臂，其中没有其他光学材料被定位为例如由于加热而可能引起测量误差。[0016]根据其他的实施例。在进一步衍射时，测试波以一衍射级数在衍射光学元件处衍射，所述衍射级数与在衍射光学元件处发生衍射以产生测试波时的输入波的衍射级数相同。例如，如果以第一级衍射在衍射光学元件处通过入射波的衍射产生测试波，则与测试对象相互作用之后发生的衍射光学元件处的测试波的进一步衍射也在第一级衍射中实现。[0017]根据其他的实施例，在进一步衍射时，参考波以一衍射级数在衍射光学元件处衍射，所述衍射级数与在衍射光学元件处发生衍射以产生参考波时的输入波的衍射级数相同。[0018]根据其他的实施例，从输入波在衍射光学元件处通过衍射产生的参考波的传播方向相对于输入波的传播方向以大于1°倾斜，特别是大于5°。[0019]根据其他的实施例，在衍射光学元件处进一步衍射时，由与测试对象相互作用后的测试波和背向反射的参考波的叠加产生回波，其中回波的传播方向相对于输入波的相反传播方向以小于1°倾斜。[0020]根据其他的实施例，在衍射光学元件处进一步衍射后的测试波的波前与最佳适配于输入波的波前的球面波前的偏差是最多ΐομπι，特别是最多Ιμπι。为了确定最佳适配的球面波前，例如可以为将均方差rms最小化作为标准。与最佳适配的球面波前的最多ΙΟμπι的偏差理解为呈现在最大偏差的位置处的、进一步衍射后的测试波的波前与最佳适配的球面波的波前的偏差最多为l〇ym。[0021]根据本发明的测量布置的实施例，衍射光学元件包括衍射结构，其配置为在衍射的第一级中产生测试波，并且在衍射的其他级数中产生参考波。为此，例如可以使用计算机产生的幅度或相位全息图。通过使用相同的衍射结构来产生测试波和参考波，操作期间的例如由于对衍射元件的不均匀加热而发生的衍射结构的光学特性的变化对两种波均有相同的影响。当在测试波上叠加参考波时，这些误差的绝大部分被补偿，使得测试对象的表面形状的高精度测量是可能的。[0022]根据本发明的其他的实施例，衍射光学元件具有两个衍射结构图案，布置这两个衍射结构图案使得它们在平面中彼此叠加，其中衍射结构图案中的一个配置为产生测试波，且衍射结构图案的另一个配置为产生参考波。这里的衍射光学元件可以包括例如复杂编码CGH。复杂编码CGH具有平面衍射结构，该平面衍射结构为测试波的衍射结构图案和参考波的衍射结构图案的叠加的结果。所述复杂编码CGH优选地在透射中产生两种波或在反射中产生两种波。结果，在一个制造过程中可以制造CGH的衍射结构，并且因此经由相同的制造公差或制造误差。这些可以在CGH的校准期间确定。特别是，当在测试波上叠加参考波时，衍射结构与期望形状的操作相关的偏差例如由加热引起被补偿。[0023]根据本发明的测量布置的输入波可以具有平面的、球面的或自由形式波前中的任一种。自由形式波前在这里指电磁波的波前，其表现为与任何理想球面特别是与最佳适配于波前的球面至少ιολ的偏差，其中λ是波的波长。换而言之，自由形式波前的波前与每个理想球面至少在一个点中偏差至少10入。[0024]根据本发明的实施例，准直器设置在输入波的束路径中，以从输入波产生具有平面波前的准直的输入波。其他的实施例具有合适配置的光学布置，以在输入波的束路径中产生具有球面波前或者具有自由形式波前的输入波。根据测试对象的表面和使用的衍射元件，上述提到的波前形状中的一个优选用于表面测量。[0025]根据本发明的实施例，反射光学元件包括用于背向反射具有平面波前的参考波的平面反射镜。在根据本发明的替代实施例中，反射光学元件可以具有用于背向反射具有球面波前的参考波的凹面或者凸面的球面反射镜，或者具有带有作为反射表面的自由形式表面的反射镜，以背向反射具有自由形式波前的参考波。自由形式表面这里理解为是非旋转对称的、非球面的表面，该自由形式表面例如可通过多项式或样条曲线来描述。[0026]在根据本发明的实施例中，产生参考波的衍射结构图案还配置为将参考波的波前适配于反射光学元件的形状，使得将参考波背向反射至衍射元件。特别是，配置衍射结构图案使得参考波自身背向反射。因此，输入波不再需要具有适配于反射光学元件的波前。现在通过衍射光学元件发生参考波的波前的适配。[0027]根据本发明的实施例，安装反射光学元件使得其相对于垂直于参考波的传播方向布置的轴线可以倾斜。通过反射光学元件的适当倾斜，参考波相对于测试波倾斜。以这种方式，可以实现对于本领域技术人员已知且如在US5,361，312中描述的多条纹干涉法或位移测量干涉法DMI。[0028]在根据本发明的其他的实施例中，安装反射光学元件使得其沿着衍射参考波的传播方向是可位移的。特别是，反射光学元件可以以参考波的波长的分数以增量位移或连续位移。因此可以实现本领域技术人员已知的相位位移干涉测量，例如从旧5,361，312。特别是，可位移安装的反射光学元件配置作为平面反射镜。[0029]根据本发明的其他的实施例，反射镜元件、衍射光学元件或这两个光学元件具有各自的基板，所述基部包含的光学材料的热膨胀系数在5°C至35°C的温度范围中就绝对值而言最大为〇.5xHT6IT1即热膨胀系数至少为-0.δχΠ^ΙΓ1，且至多为+0.5xHT6IT1。在0°Cto50°C的温度范围中的热膨胀系数就绝对值而言最大为0.05xHT6IT1t3具有非常小的热膨胀系数的光学材料的不例包括来自SchottAG公司的产品ZerodurK石英和来自康宁公司（CorningInc的产品ULE®玻璃超低膨胀玻璃）。替代地或额外地，基板包含无热光学材料。所谓的无热光学材料是这样的材料，其中折射率的温度相关的变化和材料的膨胀至少部分地在其光学效应方面得到补偿。因此，在这些材料中光路长度基本上与温度不相关。无热光学材料的示例包括氟化钙CaF2和来自SchottAG公司的产品P-PK53。另外，也可以由不同材料的层形成基板。通过这些措施有效地减少了在衍射或反射光学元件的光学特性中温度相关的变化。[0030]根据本发明的实施例，在以小于10Ombar的气压的空气填充或以大气压下的氦气填充的腔室内布置该测量布置。这种真空或氦气仅具有在折射率的微小的温度相关的变化。真空还具有没有明显的热传导或对流发生的优点。[0031]根据本发明的其他的实施例，测量布置还包含至少一个热屏蔽件以屏蔽衍射光学元件、反射光学元件或这两个光学元件不受来自热源的热辐射。例如可以在衍射光学元件、反射光学元件或热源的附近实现热屏蔽件的布置。根据实施例的热屏蔽件在表面上包括由吸收热辐射的材料制成的涂层。在相反的表面上可以设置由强反射热辐射的材料制成的涂层，例如金。吸收涂层优选地布置在热屏蔽件的面向衍射或反射光学元件的表面上。以此方式，衍射或反射光学元件的加热以及因而任何相关的测量误差被有效地最小化。[0032]根据本发明的实施例，测量布置包括加热测试对象至指定温度的加热装置。特别是，加热装置适当地配置为将测试对象加热至高于32°C或高于35°C或高于40°C的温度。加热装置优选地至少在测量期间将整个测试对象调控至指定温度，并且在过程中也考虑到由测量辐射或者由测量布置的其他部件的热辐射或热传导引起的热。因此，当测试对象表面的预期操作温度显著地高于环境温度时，可以测量测试对象例如EUV反射镜）的表面。[0033]根据本发明的测量布置的实施例，还提供平面校准反射镜，并且衍射光学元件还配置为从输入波通过衍射产生校准波，该校准波指向校准反射镜并且具有平面波前。在实施例中的衍射光学元件特别包括用于产生测试波和参考波的至少一个衍射结构、以及用于从输入波产生具有平面波前的校准波的另一个衍射结构。优选地，在产生测试波、参考波和平面校准波的衍射光学元件中的平面中设置三个相互叠加的衍射结构。例如为此使用相应配置的复杂编码CGH。根据实施例，校准波通过平面校准反射镜自身背向反射。以该方式，在校准波被衍射元件进一步衍射，与参考波进一步叠加之后，可以由捕获装置测量。因此，衍射元件、捕获单元和测量布置的其他部件的高精度测量校准是可能的。[0034]相应地，在根据本发明的其他的实施例中还提供球面校准反射镜，并且衍射光学元件配置为从输入波通过衍射产生校准波，该校准波指向球面校准反射镜并且具有球面波前。特别是，衍射光学元件包括从输入波产生具有球面波前的校准波的其他衍射结构。再次，可以在产生测试波、参考波和球面校准波的衍射光学元件中的平面中设置三个相互叠加的衍射结构图案，例如复杂编码CGH。球面校准波优选地通过球面校准反射镜自身背向反射，并且在衍射光学元件处进一步衍射并与参考波叠加后，通过捕获装置测量该球面校准波。以该方式也实现衍射光学元件的高精度校准。[0035]根据本发明的实施例，还提供平面校准反射镜和球面校准反射镜，并且衍射光学元件配置为:还从输入波通过衍射产生指向平面校准反射镜且具有平面波前的校准波，以及指向球面校准反射镜且具有球面波前的校准波。特别是，衍射光学元件包括产生测试波、参考波、平面校准波和球面校准波的衍射结构。所述衍射光学元件优选地包括衍射结构，该衍射结构表示四个衍射结构图案的叠加，以各自产生上文提到的波中的一个。例如在DE102012217800A1中所披露的，为此可以使用复杂编码CGH。在两个校准波的情况下，高精度校准衍射光学元件成为可能。[0036]根据本发明的其他的实施例中的测量布置还包括布置在第一平面校准波和第二球面校准波的束路径中的封闭装置，该封闭装置选择性地允许平面校准波或球面校准波通过。特别是，封闭装置包括相互匹配的两个封闭元件并且分别例如设计为快门的形式。通过该措施，为了校准的目的，可以用快速且不复杂的方式在校准的过程中选择各个校准波。在其他的实施例中，可以为一个或两个校准波提供封闭元件例如快门），该快门阻挡相应的校准波或允许它独立于另一个校准波通过。[0037]干涉式地确定测试对象的表面的形状的根据本发明的方法的实施例还包括如下步骤:从输入波通过衍射光学元件产生至少一个校准波，该校准波指向校准反射镜处并且具有平面或球面波前;确定反射光学元件和至少一个校准反射镜的表面缺陷；测量反射光学元件和校准反射镜之间的波前差;确定来自测量的波前差和表面缺陷的校准校正；以及在考虑校准校正的情况下，从捕获的干涉图确定测试对象的表面的形状。[0038]为了确定反射光学元件或校准反射镜的表面缺陷，例如可以使用对于本领域技术人员已知的三位置测试方法。这种方法例如从DE19820785A1中已知。在该方法中，在围绕光轴的不同转动位置和沿着光学元件的光轴的不同位置，使用捕获单元和衍射光学元件干涉式测量各个光学元件。测量可以例如在基准位置、转动180°的位置和猫眼位置中。可以从捕获的干涉图绝对地确定表面形状。可以用于确定表面缺陷的其他方法为移动转动方法。这个方法Su等人的“Absolutesurfacefiguretestingbyhift-rotationmethodusingZernikepolynomials，”OpticsLetters,37卷，15期，3198-3200页（2012中描述。[0039]优选地通过捕获装置测量波前差。在这种情况下，在捕获平面中捕获并且评价干涉图，该干涉图由在参考波上叠加校准波而产生。可以通过这个方法进行衍射光学元件的高精度校准和测量装置的其他部件的高精度校准。[0040]根据本发明的配置变型，从输入波通过衍射光学元件产生第一校准波其指向第一校准反射镜且具有平面波前和第二校准波其指向第二校准反射镜且具有球面波前），测量反射光学元件分别与第一校准反射镜和第二校准反射镜之间的各个波前差，并且从测量的波前差和表面缺陷中确定校准校正。在这种情况下，也可以使用测量布置的捕获装置来测量波前差。当测量第一校准波和参考波之间的波前差时，通过封闭元件阻挡第二校准波，并且还可以反过来配置。[0041]根据本发明，还提供操作温度高于32°C的反射镜的制造方法。该制造方法将所述反射镜加热至大于32°C的指定温度，使用包括衍射光学元件测量布置以小于0.Inm的绝对测量精度测量反射镜的表面的形状，其中至少该衍射光学元件具有小于25°C的温度，并且基于测量的表面形状通过加工该表面将反射镜的表面适配于期望形状。可以通过该制造方法来制造特别是EUV微光刻的大的非球面的反射镜，其操作温度显著高于环境温度。根据本发明制造方法的其他的实施例，测量布置配置为根据本发明的前述测量布置或其实施例中的一个的形式。[0042]根据实施例，测量布置还包括反射光学元件和捕获装置，并且反射光学元件和捕获装置还在表面形状的测量期间具有低于25°C的温度。在其他的实施例中，绝对测量精度小于0.04nm。将反射镜加热至超过35°C特别是超过40°C的指定温度。[0043]反射镜的制造方法可以包括特别是使用根据前文描述的实施例中的任一个的测量布置或测量方法。[0044]根据本发明还提供具有反射极紫外辐射的表面的反射镜，其中该表面在操作温度超过32°C时与镜面对称的期望形状的偏差小于0.InmRMS。此处，镜面对称的期望形状是自由形式的表面，其与每个旋转对称的非球面的偏差大于5μηι。[0045]此处，RMS指均方根。镜面对称的期望形状具有至少一个对称平面。因此，该表面具有形成期望形状的镜面对称的部分和非镜面对称的部分，其中非镜面对称的部分小于0.InmRMS。特别是，镜面对称的期望形状与它的最佳适配的旋转对称的非球面的偏差大于5μηι或大于ΙΟμπι。自由形式表面理解为对于本领域技术人员已知的用多项式可以描述的非旋转对称的非球面表面。[0046]根据本发明的实施例，与镜面对称的期望形状的偏差在温度超过32°C时小于0.04nmRMS。在其他的实施例中，在操作温度超过35°C，特别是超过40°C时适用上文描述的表面偏差的技术规格。[0047]根据本发明的其他的实施例，期望形状与每个球面具有至少Imm的偏差。在这种情况下，光学表面是大且强的自由形式的表面。[0048]根据本发明，还提供一种微光刻的投射镜头，其以极紫外辐射将掩模结构成像至像平面上。根据本发明的投射镜头包括加热投射镜头的至少一个反射镜的反射镜加热装置，其中在至少一个反射镜的温度超过32°C时，投射镜头具有小于0.5nmRMS的系统波前。[0049]此处，系统波前理解为在投射镜头的像平面中的单独的场点处由投射镜头产生的波与球面波的最大偏差。此处，对于每个场点，通过形成波前表面上的多个测量点的均方根RMS来确定当前的波与相关球面波的偏差。[0050]根据本发明投射镜头的实施例，至少一个反射镜的温度超过35°C或超过40°C。在其他的实施例中，至少两个反射镜，特别是投射曝光装置的所有反射镜具有超过32°C、超过35°C或超过40°C的温度。在所述的情况下，实施例中的投射镜头还具有小于0.2nmRMS的系统波前。[0051]特别是，在考虑曝光辐射引入的热的情况下，可以配置反射镜加热装置使得一个或多个反射镜总是具有指定温度。因此，可以实现甚至曝光辐射的高输出，而不会由于热效应明显损害成像质量。[0052]根据本发明的测量布置、根据本发明的测量方法以及特别是根据本发明的制造方法使得制造根据本发明的反射镜是可能的。这种反射镜的可获得性继而使得制造根据本发明的投射镜头是可能的。[0053]上面列出的根据本发明的关于方法的实施例、示例性实施例和实施例变型等所指定的特征可以相应地转移到根据本发明的装置。相反，上面列出的根据本发明的关于设备的实施例、示例性实施例和实施例变型等所指定的特征特别是根据本发明关于测量布置的），可以相应地转移到根据本发明的方法，特别是根据本发明的干涉式测量测试对象的表面的形状的方法。在附图的说明和权利要求中解释根据本发明的实施例的这些和其他特征。单独的特征可以分别地或组合地实施，作为本发明的实施例。此外，在合理的情况下，仅在本申请期间或之后，它们可以描述独立的可保护的有利的实施例并且保护其所要求。附图说明[0054]参照所附的示意性附图，在根据本发明的示例性实施例的如下的详细描述中示出了本发明的上述和其他的有利特征。附图中：[0055]图1以示意图示出了根据本发明的测量布置的第一示例性实施例。[0056]图2以示意图示出了根据本发明的测量布置的第二示例性实施例，其具有热屏蔽件和真空环境。[0057]图3a和3b分别以示意性细节视图示出了具有可倾斜安装或可位移安装的反射光学元件的测量布置的示例性实施例。[0058]图4以示意图示出了具有平面和球面校准反射镜的测量布置的第三示例性实施例。[0059]图5以示意图示出了根据本发明的方法的示例性实施例，其使用图4的测量布置来确定表面形状。[0060]图6以示意图示出了干涉式地确定表面形状的测量布置的其他示例性实施例。[0061]图7以示意图示出了根据本发明的反射镜的示例性实施例；以及[0062]图8以示意图示出了根据本发明的具有投射镜头的投射曝光装置的示例性实施例。具体实施方式[0063]在上文描述的示例实施例或者实施例或者实施例变型中，功能上或结构上彼此相似的元件被尽可能地提供相同或相似的附图标记。因此，为了理解特定示例性实施例的单独的元件的特征，应当参考其他示例性实施例的描述或者本发明的一般性描述。为了方便描述，在一些附图中绘制笛卡尔xyz坐标系，根据该坐标系，在图中示出的部件的相应的位置关系是显而易见的。[0064]图1示出了测量布置10的示例性实施例，该测量布置10以干涉方式确定测试对象14的光学表面12的形状。测量布置10可以特别地用于确定表面12的实际形状与期望形状的偏差。提供的测试对象14可以是例如EUV微光刻的投射镜头的反射镜，该反射镜具有的非球面表面用于反射波长小于IOOnm的EUV辐射，特别是大约13.5nm或者大约6.8nm的波长，且具有大于32°C的反射镜温度，特别是大于35°C或大于40°C。反射镜的非球面表面可以具有自由形式表面，与每个旋转对称的非球面的偏差大于5μπι，且与每个球面的偏差为至少1_。前文所述反射镜温度对应于在微光刻投射曝光设备中的曝光操作中的反射镜的操作温度。为了调节反射镜的温度，测量布置10可以包含加热装置在图1中未示出）。[0065]测量布置10包含光源16,其提供足够的相干测量辐射作为输入波18。在这个示例性实施例中，光源16包括具有出射表面22的光学波导20。光学波导22连接至例如形式为激光器的辐射源在图1中未示出）。通过示例，为此可以规定使用具有波长约为633nm的氦氖激光器。然而，照明辐射也可以具有在电磁辐射的可见光或非可见光的波长范围中的不同波长。含有光学波导20的光源16仅构成可以使用于测量布置的光源的一个示例。在替代配置中，不是光学波导20,而是含有透镜元件、反射镜元件等等的光学布置可以配置为提供合适的输入波18。[0066]测量布置还包含衍射光学元件24和反射光学元件30,衍射光学元件24用于从输入波18产生测试波26和参考波28,且反射光学元件30用于反射参考波28。衍射光学元件24配置为复杂编码CGH的形式并且包含衍射结构34,该衍射结构在平面中形成彼此叠加布置的两个衍射结构图案34。这样两个衍射结构图案可以例如由形式为底部光栅的第一结构图案和形式为顶部光栅的第二衍射结构图案形成。衍射结构图案中的一个配置为产生含有波前的测试波26,该波前至少部分适配于光学表面12的形状。此处就绝对值而言，通过在所述衍射结构图案处的输入波18的第一级或更高级衍射而产生测试波26,例如衍射的第一级。测试波26的传播方向相对于输入波18的传播方向以至少1°倾斜。另一个衍射结构图案产生具有平面波前的参考波28。就绝对值而言，这通过在另一衍射结构图案处的输入波18的第一级或更高级衍射完成，例如衍射的第一级。参考波28的传播方向相对于输入波18的传播方向以至少1°倾斜。反射光学元件30配置为含有平面波前的参考波28的背向反射的平面反射镜的形式。在另一配置中，参考波28可以具有球面波前，且反射光学元件可以配置为球面反射镜。[0067]测量布置10还包含捕获装置36和干涉仪相机40，捕获装置36具有分束器38，所述分束器用于将反射的测试波26和反射的参考波28的组合引导到输入波18的束路径之外，该干涉仪相机40用于捕获由在测试波26上叠加参考波28而产生的干涉图。[0068]下文将描述功能性原理和测量装置10的部件之间的相互作用，以及用于干涉式地确定测试对象14的表面形状的方法的对应的示例性实施例。[0069]由光源16提供的照明辐射以具有球面波前的输入波18的形式离开光学波导20的出射面22,并且沿着指向衍射光学元件24的传播轴线42发散地传播。在该过程中，输入波18首先穿过分束器38,然后穿过衍射光学元件24。在替代性配置中，可以在分束器38和衍射光学元件24之间提供产生具有平面波前的输入波18的准直器。[0070]配置为复杂编码CGH的衍射光学元件24,从输入波18在彼此叠加布置的衍射结构图案中的一个处通过衍射在透射中产生测试波26,测试波26指向测试对象14的表面12,并且具有适配于表面12的期望形状的波前。这个变换期间，适配波前以使得测试波以期望的形状垂直入射在表面的各个位置并且自身被背向反射。[0071]在衍射光学元件24处产生测试波26后，该测试波26在测试对象14方向上传播，接着入射在测试对象14的光学表面12上。测试波26由表面12背向反射衍射光学元件24,并且在通过衍射结构34时被再次衍射。此处的衍射级数与当由衍射输入波18来产生测试波26时使用的衍射级数相同，例如衍射的第一级。由于在光学元件24处测试波的进一步的衍射，反射的测试波26变换回到近似球面波，其中其波前具有与球面波前对应的偏差，这归因于测试对象14的表面12与期望的形状的偏差。然而，这些偏差不大于ΙΟμπι。[0072]衍射光学单元24还从输入波18在衍射结构图案中的另一个处通过衍射在透射中产生参考波28,其指向反射光学元件30。这里，参考波28具有与测试波26的传播方向偏差的传播方向，以及适配于反射光学元件30的表面形状的波前。在该示例性实施例中，反射光学元件30配置为平面反射镜，且由于在衍射光学元件24处的变换，参考波具有平面波前。在不同的配置中，凸面或凹面球面反射镜可以设置为反射光学元件，且可以执行参考波的波前的对应的适配。[0073]在衍射光学元件24处产生参考波30后，其接着入射至反射光学元件30上然后由此自身背向反射。在这种情况下，没有其他光学元件处于参考波28的束路径中或测试波26的束路径中。反射的参考波28再次穿过衍射光学元件24并且再次衍射。这里的衍射级数与当由衍射输入波18来产生反射波28时使用的衍射级数相同，例如衍射的第一级。由于在光学元件24处反射的参考波28的进一步衍射，反射的参考波28变换回球面波。在替代配置中，在输入波18的束路径中使用准直器来产生具有平面波前的输入波，并使用平面反射镜作为反射光学元件30,则不需要通过衍射光学元件24来适配参考波28的波前。在另外的替代配置在附图中未示出）中，在输入波18的束路径中使用准直器来产生具有平面波前的输入波，并使用平面反射镜作为反射光学元件30，则仅通过衍射光学元件24来适配参考波28的平面波前的方向。[0074]因此，衍射光学元件24也用于将反射的测试波26叠加在反射的参考波28上。两束波作为会聚射束44入射在分束器38上，并由此在干涉仪相机40的方向上被反射。两个会聚射束44穿过目镜46行进，并最终入射至干涉仪相机40的捕获平面48上。干涉仪相机40可以配置为例如CCD传感器的形式，并且捕获由干涉波产生的干涉图。在会聚射束44的焦点处可以布置作为用于减少散射辐射的空间滤波器的光阑（在图1中未示出）。在衍射光学元件24处的进一步衍射后的反射的测试波26和反射的参考波28的情况也可以描述为在进一步衍射后，两束反射波26和28形成共同的回波。根据实施例的回波的传播方向在衍射光学元件24前面的区域中相对于输入波18的相反传播方向以至少1°倾斜。[0075]测量布置10的评价装置在图1中未示出）从捕获的干涉图确定测试对象14的光学表面12的实际形状。为此，评价装置具有合适的数据处理单元并且使用本领域技术人员已知的相应的计算方法。替代地或附加地，测量装置10可以具有数据存储器或网络接口，使得可以采用通过外部评价单元经由网络存储或传输的干涉图来确定表面形状。在确定表面形状时，评价单元特别地考虑了衍射元件24的校准结果或复杂编码CGH的校准结果。下文将进一步描述这种校准的示例性实施例。[0076]通过采用衍射光学元件24的相互叠加的衍射结构图案，在透射中产生测试波26和参考波28,并分别在测试对象14处和反射光学元件30处的反射之后叠加所述波，则以高精度测量特别是比环境温度高的测试对象是可能的。这里，在低于25°C的室温下，特别是大约22°C的室温，可以操作测量布置10且特别是衍射光学元件24。由温热的测试对象14的热辐射引起的衍射光学元件24的不均质性，对于参考波28和测试波26具有相同的影响，并且在采用测量布置10的干涉式测量中且相互抵消。由温热的测试对象14的热辐射引起的衍射光学元件24的不均匀性，对于参考波28和测试波26具有相同的影响，因此，采用测量布置10的干涉式测量减少了不均匀性的影响。[0077]图2示出了测量布置10的第二示例性实施例。测量布置10大体上对应于图1的测量布置，然而还布置在真空室50中。真空室50以小于IOOmbar的气压填充空气。这种真空仅具有较小的与温度相关的折射率的改变。替代地，真空室50可以在大气压下填充氦气。同样在氦气的情况下，仅发生较小的与温度相关的折射率的改变。[0078]测量布置10还包括多个热屏蔽件52。作为示例，通过衍射光学元件24布置两个这种热屏蔽件52a，并且保护该衍射光学元件不受来自热源的热辐射。热屏蔽件也可以以对应的方式由反射光学元件30提供。两个另外的热屏蔽件52b布置在热源的附近，例如定位驱动器54或测试对象14的加热装置56。热屏蔽件52各自在一侧上具有由吸收热辐射的材料构成的涂层，并在另一侧上具有由强反射热辐射的材料如金构成的涂层。热屏蔽件52进一步各自布置为使得具有热吸收涂层的侧面面向测量装置10的衍射光学元件24或反射光学元件30。[0079]加热装置56可以使测试对象14的加热至指定温度，例如在微光刻投射曝光设备的曝光操作中的测试对象14的前文所述的预期的操作温度。特别地，加热装置56设计为将测试对象14加热至大于32°C的指定温度。这里，加热装置56至少在测量期间将测试对象的温度操控至指定温度，为此，该加热装置例如包含适当设计的温度传感器。[0080]衍射光学元件24和反射光学元件30的基板还包含光学材料，该光学材料具有在从5°C至35°C的温度范围中，以绝对值计最多0.5xIT6IT1的热膨胀系数。特别地，各个基板可以具有光学材料，该光学材料具有在从TC至50°C的温度范围中，以绝对值计最多0.05xHT6IT1的热膨胀系数。这种光学材料的示例包括Zerodur®或者ULE®玻璃（超低膨胀玻璃。[0081]当加热CGH的基板时，特别是必须考虑到热膨胀和折射率的温度相关性。平行于衍射结构34的热膨胀实质上导致单独的结构的横向位移，这特别在高条纹密度的情况下引起额外的相贡献。当条纹密度大于800线mm时，基板材料具有非常小的热膨胀系数，例如前文提到的Zeradur®和ULE®:玻璃超低膨胀玻璃），因此该基板材料优选地用于衍射光学元件24。[0082]由于特别是对通过衍射光学元件24的光路长度的加热，则相对于衍射结构34的平面垂直变化是可能的。这种发生是由于衍射光学元件24的垂直膨胀，或者是由于衍射光学元件24的基板的温度相关的折射率。这种效果主要支配较小的条纹密度，且通常在可见光光谱范围中的输入波18的波长。在这种情况下，衍射光学元件24的基板优选地使用来自SchottAG公司的产品，例如氟化钙CaF2或P-PK53的无热光学材料。所谓的无热光学材料是这样的材料，其中折射率的温度相关的变化和材料的膨胀至少部分地在其光学效应方面得到补偿。这些材料具有低的热光学常数G=a*n-1+dndT，含有热膨胀系数α、折射率η和折射率的温度系数dndT。因此，在这些材料中的光路长度基本上与温度无关。在其他的示例性实施例中，为了实现无热效果，基板也可以由不同材料的多个层制成，例如以替代形式的石英和CaF2。这里，层的厚度可以根据条纹密度调整，以便最小化上文提到的由于横向和垂直膨胀引起的效果。CaF2还具有高热导率，因此在局部温度改变时发生快速热化。表格1列出了上文提到的材料的一些热特性。[0084]表1:热特性[0085]图3a示出了根据图1的测量布置10的下部，包括衍射光学元件24和反射光学元件30,在设计变型中，反射光学元件30安装为使得它以示意性的细节视图中可倾斜。反射光学元件30安装为使得它可以关于垂直于光轴或者参考波28的传播方向58转动。通过转动（箭头60反射光学元件30,反射的参考波62相对于反射的测试波26倾斜。例如，压电元件可以设置为用于这种转动。测量布置10可以以这种方式用于多条纹干涉法或所谓的位移测量干涉法DMI。相对于反射的测试波26的反射的参考波62的倾斜产生条纹图案，该条纹图案表示由于位置相关的相位移动引起的捕获平面48中的空间载波。这里，载波的频率取决于倾斜角度。由于测试对象14的表面12与期望的形状的偏差，测试波26的局部相位移动影响载波或条纹图案的空间调制。可以从载波的调制以高精度计算表面12的形状。作为倾斜反射光学元件30的替代，通过产生参考波28的衍射光学元件24的衍射结构图案的对应形式，反射的参考波62也可以相对于测试波26倾斜。例如在US5，361，312中描述的多条纹干涉法。[0086]图3b示出了根据图1的测量布置10的下部，包括衍射光学元件24和反射光学元件30，在含有平面反射镜为反射光学元件30的实施例中，安装该反射光学元件使得它沿着光轴或者参考波26的传播方向（箭头64是可以位移的。特别地，反射光学元件30可以以参考波26的波长的几分之一为增量或连续地位移。例如，可以为此使用压电元件。通过该测试布置10,可以施行相位移动干涉法。这里，在反射光学元件30的不同位置以及因而参考波26的不同的相位位移处，在捕获平面48中顺序地捕获干涉图。在捕获平面48中相位移动是与位置无关的，并且随时间变化。产生时间调制载波以代替上述提到的空间调制载波。可以从来自在一点处捕获的强度的多个干涉图唯一地确定在该点处的测试波26的位移变化。因此也可以通过这种方法以高精度测量测试对象14的表面12。相位移动干涉法同样在US5，361，312中被描述。[0087]图4示出了其他测量布置10的示意性视图。对比于图1的测量布置，测量布置10包含作为衍射光学元件24的复杂编码CGH，除了测试波26和参考波28之外，其通过衍射在透射中从输入波18产生含有平面波前的校准波66和含有球面波前的校准波68。平面校准波66和球面校准波68均各具有与所有其他波偏离的传播方向。为了这个目的，衍射光学元件24可以包括衍射结构34,该衍射结构形成以叠加形式布置在平面中的四个衍射结构图案。例如在DE102012217800Al中披露这种衍射光学元件。这里，由复杂编码相位光栅的单独相位函数形成不同衍射结构图案。[0088]在平面校准波66的束路径中布置有平面校准反射镜70。平面校准反射镜70将平面校准波66自身反射。另外，球面校准波68的束路径中布置有球面校准反射镜72。球面校准反射镜72配置为使得它将球面校准波68自身背向反射。另外在平面校准波66的束路径和球面校准波68的束路径中设置有封闭装置74,其选择性地允许平面校准波66或球面校准波68通过。为此，封闭装置74具有一个或两个适当设计的快门76。以这种方式，在校准中，可以在平面校准波66和球面校准波68之间快速变化。[0089]在图4中示出的实施例中，在校准的过程中，从测试波26的束路径中移除测试对象14。在测量测试对象14的过程中，从球面校准波68的束路径中以相应的方式移除球面校准反射镜72。在替代的配置中，通过测试对象14、球面校准反射镜72和衍射光学元件24的合适形式，球面校准反射镜72可以在测试对象14的测量期间保持在它的位置中。在这种情况下，球面校准波68与平面校准波66在测试对象14的测量期间被封闭装置74阻挡。含有两个校准波66、68的衍射光学元件24可以高精度校准。结果，可以通过根据图4的测量设备10执行高精度地测量自由形式表面的表面形状，特别是以小于〇.〇4nm的绝对测量精度。[0090]图5示出了根据本发明的方法的示例性实施例，其使用示意图的图4的测量布置10来确定测试对象14的表面形状。在图5中框出了单独的步骤。由于测量布置10使用衍射光学元件24产生参考波并且因此不包含Fizeau元件，所以校准需要相对于彼此测量配置为平面参考反射镜的反射光学元件30、平面校准反射镜70和球面校准反射镜72。在这个示例性实施例中，在测试对象14的测量期间，反射光学元件30用于参考波28的背向反射。在测量期间也可以替代地使用平面校准反射镜70或者使用球面校准反射镜72作为参考反射镜。[0091]为了确定测试对象14的表面12,首先进行衍射光学元件24的误差的高精度校准。为此，在第一步骤Sl中，确定形式为平面参考反射镜的反射光学元件30的表面缺陷Rl、平面校准反射镜70的表面缺陷R2和球面校准反射镜72的表面缺陷R3。为此，例如可以使用在Su等人的“Absolutesurfacefiguretestingbyshift-rotationmethodusingZernikepolynomials，”，OpticsLetters，37卷，15期，3198-3200页2012中描述的移动转动方法。在这个方法中，使用捕获装置36在关于光学元件的光轴的不同转动位置和沿着光轴的不同位置干涉式地测量相应的光学元件。替代地，在凸面球面校准反射镜72的情况下，也可以使用在R.Schreiner等人的“AbsolutetestingofthereferencesurfaceofaFizeauinterferometerthroughevenodddecompositions,’’AppliedOptics,47卷，32号，2008年11月10日中描述的方法。图5示意性示出了通过箭头80确定平面校准反射镜70的表面缺陷和球面校准反射镜72的表面缺陷。这里，快门76仅允许对应的校准波66或68分别通过。[0092]在第二步骤S2中，捕获装置36继而用于测量在平面校准反射镜70处反射的校准波66和在平面参考反射镜30处反射的参考波28之间的波前差dWFR21。这里，快门76仅允许平面校准波66通过并且阻挡球面校准波68。以相应的方式测量在球面校准反射镜72处反射的校准波68和在平面反射镜30处反射的参考波28之间的波前差dWFR31。这里，快门76阻挡平面校准波66。波前差由以下组成：相应的表面缺陷Rl和R2、R1和R3、以及平面参考反射镜30的对应的干涉仪误差为II、平面校准反射镜70的12和球面校准反射镜72的13。干涉仪误差11、12和13描述测量布置10的系统误差且实质上由衍射光学元件24的光栅误差引起。满足以下条件：[0093]12-11=dffFR21-R2-Rl以及13-11=dffFR31-R3-Rl[0094]干涉仪误差I1、I2和13指示由各个光学元件反射的射线与理想波前的相应的相位偏差。例如，Il指示由平面参考反射镜39反射的参考波28的相位偏差，12指示由平面校准反射镜70反射的校准波66的相位偏差，且13指示由球面校准反射镜72反射的校准波68的相位偏差。[0095]因此，干涉仪误差11、12和13可以由方向空间中的相应的坐标表示，其由与步骤S3相关联的图5的附图中所示的坐标轴u和V限定。坐标轴u和V这里是衍射光学元件24之后的对应的射线的角度的正弦，且因此表示光瞳坐标。在步骤S3中，校正平面由衍射元件24上的每个局部点中的方向空间中的各个点11、12、13确定。点11、12、13的坐标值可以从衍射光学元件24的光学设计确定。通过选择平面参考反射镜30作为参考反射镜来进行测量，可以将干涉误差Il设置成11=0。校正平面最终提供所需的干涉仪误差14作为测试对象14的校准校正。[0096]I4=ful，vl，Il=0，u2，v2，I2，u3，v3，I3，u4，v4+其余[0097]这里其余指示为非线性修正，因为电磁光栅计算表明线性模型仅表示近似值。[0098]在步骤S4中，最终执行测试对象14的表面形状的测量。为此，移除球面校准反射镜72,在测量布置10中定位测试对象14,并且由快门76阻挡平面校准波66。在测量期间，捕获装置36用于测量测试波26和参考波28之间的波前差dWFR41。对于作为测试对象的表面缺陷和作为与期望形状的偏差的R4，R4满足以下条件：[0099]R4=dffFR41-14-11其中11=0[0100]测试对象14的表面12与期望形状的偏差、且从而表面12的形状利用由校正确定的干涉仪误差14通过干涉式测量的校正来确定。[0101]图6示出了用于确定测试对象14的光学表面12的形状其他干涉式测量布置10。特别地，测量装置10允许在测量操作期间校准，并且也适用于测量比环境更温热的测试对象14,例如操作温度下的EUV反射镜。测量布置10包括具有Fizeau元件84的干涉仪82、具有CGH的衍射光学元件24、以及平面校准反射镜70。[0102]干涉仪82配置为Fizeau干涉仪的形式，并且其包括单束检测模块83和Fizeau元件84。这种干涉仪的结构和功能对于本领域技术人员是已知的。单束探测模块83特别地包含产生充分相干以用于干涉式测量的照明辐射的光源。作为示例，照明辐射通过准直器形成具有平面波前的准直束作为输入波。输入波18入射至Fizeau元件84上。输入波18的分量以参考波28的形式被Fizeau兀件84的Fizeau表面背向反射。输入波18的另一分量作为测量波86继续传播。[0103]测量波86继而通过衍射光学元件24的简单编码CGH。衍射光学元件24从测量波86在零级衍射中产生含有平面波前的校准波66,且在第一衍射中产生与测试对象14的表面12的期望形状适配的含有波前的测试波26。在测试波26的束路径中布置测试对象14。在测量模式中，测试波26由表面12背向反射。在校准波66的束路径中布置平面校准反射镜70。背向反射的测试波26通过衍射光学元件24和Fizeau元件84行进，返回至干涉仪82中，并且在这里被参考波28叠加。在过程中产生的干涉图由干涉仪相机捕获。在替代配置中，该干涉仪可以使用Michelson干涉仪、Twyman-Green干涉仪或者其他合适的干涉仪。[0104]在校准模式下，校准波66被平面校准反射镜70反射回至自身。在测试波的束路径中和校准波66的束路径中还布置封闭装置74,其选择性地允许用于测量的测试波26和用于校准的校准波66中两者之一通过。为此，例如可以使用一个快门或彼此匹配的两个快门。[0105]在测量期间，由测试对象14的表面12反射的测试波26行进返回至干涉仪82中，并且被测量以通过与参考波28叠加来确定表面形状。在校准期间，由平面校准反射镜70反射的校准波66对应地行进返回至干涉仪82中，并且被测量来校准衍射光学元件24。可以在测量操作期间使用封闭装置74来非常快速地切换至校准模式。在这种方式中，可以在操作期间捕获由温热的测试对象14引起的在衍射光学元件24的光学特性的变化，并且在测试对象14的表面测量的评价中考虑该变化。[0106]在替代的不例性实施例中，并非提供简单编码CGH，而是提供复杂编码CGH作为衍射光学元件24来产生具有球面波前的校准波。球面校准波由凸面的球面校准反射镜背向反射。这种反射镜比平面校准反射镜占有更少的空间。从而可以用节省空间的方式实现测量布置10。在其他示例性实施例中，还可以提供第二校准反射镜来校准衍射光学元件24。[0107]以对应于图2的测量布置的方式，根据图6的测量布置10可以布置在真空室50中。将干涉仪82的输入波18通过合适配置的窗88引导至真空室50中。测量布置10还包含保护衍射光学元件24不受来自热源的热辐射的热屏蔽件52,例如不受由定位驱动器54发出的热辐射。如在根据图2的测量布置中，衍射光学元件24的基板和校准反射镜70的基板优选地包含具有非常小的热膨胀系数的材料或无热光学材料。对于这些特征的其他描述，参考根据图2的测量布置10的描述。[0108]根据本发明的用于微光刻投射曝光装置的投射镜头的具有高于32°C的操作温度的反射镜的制造方法的示例性实施例提供了具有近似于根据制造精度指定的期望形状例如指定的自由形式表面）的表面的反射镜的步骤制造。继而，将反射镜加热至大于32°C的指定温度。替代地，在制造含有近似表面形状的反射镜期间或之前，可以进行加热。在进一步的步骤中，以小于0.InmRMS的测量精度执行反射镜的表面的形状的测量。为此，使用在前文所述实施例中的一项中的干涉式测量布置10,其具有衍射光学元件24、反射光学元件30和捕获设备36,其中至少衍射光学元件24具有低于25°C的温度，特别是室温。另外，反射光学元件和捕获单元也可以具有低于25°C的温度。在测量后，基于测量结果，在合适的位置对表面进行后加工，结果为在温度超过32°C时，它以足够的精度对应于期望形状。在其他示例性实施例中，可以规定重复测量和后加工的步骤。绝对测量精度也可以小于〇.〇4nmRMS，或者反射镜可以加热至超过35°C或超过40°C的温度。[0109]根据本发明描述的测量布置10、测量方法或制造方法的示例性实施例可以制造反射镜，例如具有自由形式表面和远高于32°C的操作温度的高精度EUV反射镜。根据图8，这种反射镜的适用性继而允许制造根据本发明的投射镜头210。[0110]图7以示意性截面视图示出了根据本发明反射镜100的示例性实施例。反射镜100配置为在超过32°C的反射镜温度时反射具有〈lOOnm的波长的EUV辐射，特别是大约13.5nm或大约6.8nm的波长。为此，反射镜100具有表面102,所述表面102例如通过相应的涂层来反射EUV辐射。替代地，所提供的操作温度可以是超过35°C或超过40°C的反射镜温度。图7示出了垂直于镜面对称期望形状106的对称的平面104的反射镜100的横截面。图7中的对称平面104平行于XZ平面并且因此垂直于附图平面布置。期望形状106具有镜面对称而不是旋转对称的自由形式表面的形式。图7还示出了具有转动轴线110的旋转对称非球面108,其最佳适配于期望的形状。为了示意的目的，以高度放大的方式示出了表面102与期望形状106的偏差和期望形状106与非球面108的偏差。[0111]在这个示例性实施例中，带有转动轴线110的最佳适配旋转对称的非球面106与期望形状104的最大偏差Δ大约为6μπι并且因而大于5μπι。在替代的示例性实施例中，该期望形状106的最大偏差可以大于ΙΟμπι或者具有与每个球面至少Imm的偏差。在超过30°C的操作温度时，实际表面102与期望表面106的最大偏差δ为〇.〇9nmRMS并且因此小于0·InmRMS。在其他示例性实施例中，在超过35°C或超过40°C时，表面102的最大偏差δ为小于〇.InmRMS或小于0.04nmRMS0[0112]图8以示意图示出了根据本发明的具有投射镜头210的微光刻投射曝光装置200的示例性实施例。投射镜头210包含根据图7的示意性实施例中的一个的至少一个反射镜212-2。特别地，已经使用根据本发明的测量装置10或根据前文所描述的示例性实施例中的一个的制造方法制造反射镜212-2。[0113]投射曝光设备200包括产生形式为EUV辐射极紫外辐射的曝光辐射204的照明系统202，该曝光辐射具有〈100nm的波长，特别是大约13.5nm或大约6.8nm的波长。在其他变型未在附图中示出）中，曝光辐射204可以是已知的DUV辐射，即在深UV波长范围中具有如248nm或193nm的波长的辐射。[0114]曝光辐射204入射至光刻掩模206,该光刻掩模含有布置在其上待成像掩模结构。这里，如图8所示，曝光辐射204可以在光刻掩模206处反射，如通常是当使用EUV辐射时的情况。替代地，光刻掩模206也可以配置为透射掩模。在这种情况下，曝光辐射穿过掩模206。[0115]图8通过三个反射镜示例，特别是反射镜212-1、212-2和212-3示出了包括多个反射镜的投射镜头210,使用该投射镜头实现了将掩模结构成像至布置在像平面216中的晶片214上。至少一个反射镜，在示出的实施例中为212-2,具有根据关于图7的上述示范性实施例中的一个的规格。反射镜加热装置218配置为将反射镜212-2加热至超过32°C的指定操作温度。该反射镜加热装置218配置为使得，考虑到由曝光辐射204引起的热，反射镜仍总是具有指定的操作温度。为此，可以提供温度传感器在图8中未示出）和温度调控。在至少一个反射镜212-2的操作温度超过32°C时，投射镜头还具有小于0.5nmRMSauf的系统波前。[0116]在替代示例性实施例中，反射镜212-2的指定温度是超过35°C或超过40°C。可以为反射镜212-1或212-3中的一个、或特别是为投射镜头210的所有反射镜指定超过32°C、超过35°C或超过40°C的操作温度，并且可以为其提供相应的反射镜加热装置。在这些实施例中，投射镜头210也可以具有小于0.5nmRMS的系统波前。在其他示例性实施例中，投射镜头210具有小于〇.2nmRMS的系统波前。[0117]通过示例来理解本说明书的示例性实施例。由此实现的公开首先使得本领域技术人员能够理解本发明及其相关优点，以及其次包含所描述的结构和方法的改变和修改，其对于本领域技术人员的理解也是显而易见的。因此，根据所附权利要求书中的限定，通过权利要求的保护旨在覆盖落入本发明的范围内的所有这种改变和修改、以及等同物。[0118]附图标记列表[0119]1〇测量布置68球面校准波[0120]12光学表面70平面校准反射镜[0121]14测试对象72球面校准反射镜[0122]16光源74封闭装置[0123]18输入波76快门[0124]20光学波导80移动转动方法箭头[0125]22出射表面82干涉仪[0126]24衍射光学元件83单束探测模块[0127]26测试波84Fizeau元件[0128]28参考波86测量波[0129]30反射光学元件88窗口[0130]34衍射结构100反射镜[0131]36捕获装置102表面[0132]38分束器104期望形状对称平面[0133]40干涉仪相机106期望的形状[0134]42传播轴线108最适配的非球面[0135]44会聚束110转动轴线非球面[0136]46目镜200投射曝光设备[0137]48捕获平面202照明系统[0138]5〇真空室204曝光辐射[0139]52热屏蔽件206光刻掩模[0140]54定位驱动器210投射镜头[0141]56加热装置212反射镜[0142]58参考波的传播方向214晶片[0143]60倾斜箭头216像平面[0144]62倾斜的参考波218反射镜加热装置[0145]64位移箭头[0146]66平面校准波

权利要求：1.测量布置，所述测量布置干涉式地确定测试对象的表面的形状，所述测量布置包括：-光源，所述光源提供输入波；-衍射光学元件，所述衍射光学元件布置在所述输入波的束路径中，并且被适当地配置为通过衍射从所述输入波分别产生测试波和参考波，所述测试波指向所述测试对象并且具有至少部分适配于所述光学表面的期望形状的波前，并且所述参考波具有偏离所述测试波的传播方向的传播方向；-反射光学元件，所述反射光学元件布置在所述参考波的束路径中，并且配置为用于所述参考波的背向反射。-捕获装置，其在捕获平面中捕获干涉图，该干涉图由与所述测试对象相互作用后的所述测试波和所述背向反射的参考波分别在所述衍射光学元件处的进一步衍射后的叠加而产生。2.如权利要求1所述的测量布置，所述测量布置配置为使得，在所述进一步衍射时，所述测试波以一衍射级数在所述衍射光学元件处衍射，所述衍射级数与在所述衍射光学元件处发生衍射以产生所述测试波时的所述输入波的衍射级数相同。3.如权利要求1或2所述的测量布置，所述测量布置配置为使得，在所述进一步衍射时，所述参考波以一衍射级数在所述衍射光学元件处衍射，所述衍射级数与在所述衍射光学元件处发生衍射以产生所述输入波时的所述输入波的衍射级数相同。4.如前述权利要求中的任一项所述的测量布置，所述测量布置配置为使得，从所述输入波通过在所述衍射光学元件处的衍射产生的所述参考波的传播方向相对于所述输入波的传播方向以大于1°倾斜。5.如前述权利要求中的任一项所述的测量布置，其中，在所述衍射光学元件处的进一步衍射时，由与所述测试对象相互作用后的所述测试波和所述背向反射的参考波的叠加产生回波，并且其中所述测量布置配置为使得所述回波的传播方向相对于所述输入波的反向传播方向以小于1°倾斜。6.如前述权利要求中的任一项所述的测量布置，所述测量布置配置为使得，在所述衍射光学元件处的进一步衍射之后的所述测试波的波前与最佳适配于所述输入波的波前的球面波前偏离至多IOym。7.如前述权利要求中的任一项所述的测量布置，其中所述衍射光学元件具有两个衍射结构图案，布置所述两个衍射结构以使得它们在平面中彼此叠加，并且其中所述衍射结构图案中的一个配置为产生所述测试波，且所述衍射结构图案的另一个配置为产生所述参考波。8.如权利要求7所述的测量布置，具有：其中产生所述参考波的衍射结构图案还配置为将所述参考波的波前适配于所述反射光学元件的形状，使得将所述参考波背向反射到所述衍射元件。9.如前述权利要求中的任一项所述的测量布置，其中安装所述反射光学元件，使得所述反射光学元件相对于垂直于所述参考波的传播方向布置的轴线是可倾斜的。10.如前述权利要求中的任一项所述的测量布置，其中安装所述反射光学元件，使得所述反射光学元件沿着所述参考波的传播方向是可位移的。11.一种干涉式地确定测试对象（14的表面12的形状的方法，包括如下步骤：-提供输入波18;-通过在衍射光学元件24处的衍射从所述输入波（18分别产生测试波26和参考波28，所述测试波指向所述测试对象（14，并且具有至少部分适配于所述光学表面（12的期望形状的波前，且所述参考波指向所述反射光学元件（30，并且具有偏离所述测试波26的传播方向的传播方向；-将与所述测试对象（14相互作用后的所述测试波26和在所述反射光学元件30处背向反射后的所述参考波28进行叠加，其中在所述衍射光学元件24处分别再次衍射所述测试波26和所述参考波28以进行叠加；-在捕获平面48中捕获由所述测试波26和所述参考波28的叠加产生的干涉图。12.如权利要求11中所述的方法，包括以下步骤：-通过所述衍射光学元件从所述输入波产生至少一个校准波，所述校准波指向校准反射镜，并且具有平面或球面波前；-确定所述反射光学元件和所述至少一个校准反射镜的表面缺陷；-测量所述反射光学元件和所述校准反射镜之间的波前差；-从所述测量的波前差和所述表面缺陷确定校准校正；-考虑到所述校准校正，从所述捕获的干涉图中确定所述测试对象的表面的形状。13.微光刻的投射镜头，以极紫外辐射将掩模结构成像至像平面上，所述投射镜头包括加热所述投射镜头的至少一个反射镜的反射镜加热装置，其中在所述至少一个反射镜的温度超过32°C时，所述投射镜头具有小于0.5nmRMS的系统波前。14.一种反射镜，具有反射极紫外辐射的表面，其中所述表面在操作温度超过32°C时与镜面对称的期望形状的偏差小于〇.InmRMS，其中所述镜面对称的期望形状为与每个旋转对称的非球面的偏差大于5μηι的自由形式表面。15.反射镜的制造方法，所述反射镜具有大于32°C的操作温度，包括以下步骤：-将所述反射镜加热至大于32°C的指定温度；-使用包括衍射光学元件的测量布置，以小于〇.Inm的绝对测量精度测量所述反射镜的表面的形状，其中至少所述衍射光学元件具有小于25°C的温度；以及-基于所述测量的表面形状，通过加工所述表面将所述反射镜的表面适配于期望形状。

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