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【实用新型】扇出型封装结构_中芯长电半导体(江阴)有限公司_202022013524.8 

申请/专利权人:中芯长电半导体(江阴)有限公司

申请日:2020-09-15

公开(公告)日:2021-04-27

公开(公告)号:CN213071121U

主分类号:H01L23/498(20060101)

分类号:H01L23/498(20060101);H01L23/31(20060101);H01L25/16(20060101);H01L21/48(20060101);H01L21/60(20060101);H01L21/56(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.04.27#授权

摘要:本实用新型提供一种扇出型封装结构,扇出型封装结构包括重新布线层、钝化层、半导体芯片、封装层、凹槽、第一金属凸块、第二金属凸块、转接板、堆叠芯片封装体、被动元件及填充层。本实用新型将多种具有不同功能的芯片整合在一个封装结构中,从而可提高扇出型封装结构的整合性;通过重新布线层、转接板及金属凸块,实现了三维垂直堆叠封装,可有效提高封装结构的集成度,且可有效缩短传导路径,以降低功耗、提高传输速度,增大数据处理量。

主权项:1.一种扇出型封装结构,其特征在于,所述扇出型封装结构包括:重新布线层,所述重新布线层包括相对的第一面及第二面;钝化层,所述钝化层包括相对的第一面及第二面;半导体芯片,位于所述钝化层的第二面及所述重新布线层的第一面之间,且所述半导体芯片的背面与所述钝化层的第二面相键合,所述半导体芯片的正面远离所述钝化层且与所述重新布线层电连接;封装层,位于所述钝化层的第二面及所述重新布线层的第一面之间,覆盖所述钝化层、重新布线层及半导体芯片;凹槽,所述凹槽贯穿所述钝化层及封装层,以显露所述重新布线层中的金属布线层;第一金属凸块,位于所述重新布线层的第二面上,且与所述重新布线层电连接;第二金属凸块,位于所述凹槽中,且与所述重新布线层电连接,所述第二金属凸块凸出于所述钝化层;转接板,位于所述钝化层的第一面上,且与所述第二金属凸块电连接,所述转接板与所述钝化层之间具有缝隙;堆叠芯片封装体及被动元件,位于所述转接板上,且与所述转接板电连接;填充层,位于所述堆叠芯片封装体与所述转接板之间,且填满所述堆叠芯片封装体与所述转接板之间的间隙;还包括覆盖所述转接板、堆叠芯片封装体及被动元件的塑封层。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中芯长电半导体(江阴)有限公司 扇出型封装结构

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