申请/专利权人:浙江一晶科技股份有限公司
申请日:2020-09-15
公开(公告)日:2021-04-27
公开(公告)号:CN213067192U
主分类号:F28D7/04(20060101)
分类号:F28D7/04(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2021.04.27#授权
摘要:本实用新型属于晶体生产领域,尤其是一种晶体生产加工用循环冷却装置,针对现有的采用冷水直接和晶体接触的方式进行冷却,冷水和晶体直接接触会影响晶体的性能,影响晶体生产加工的质量的问题,现提出如下方案,其包括底座,所述底座的顶部固定安装有冷却箱,且冷却箱上设有腔室,所述腔室的一侧内壁上固定安装有冷却通道,且冷却通道的外侧固定套设有冷却盘管,所述底座的顶部固定安装有水箱,且水箱位于冷却箱的一侧,冷却箱和冷却盘管之间密封连通有同一个循环冷却组件,本实用新型较之冷水接触式的晶体冷却装置,冷水会带走晶体热量的同时不和晶体发生接触,不会对晶体的性能造成影响,大大提高了晶体的生产质量。
主权项:1.一种晶体生产加工用循环冷却装置,包括底座1,其特征在于,所述底座1的顶部固定安装有冷却箱2,且冷却箱2上设有腔室3,所述腔室3的一侧内壁上固定安装有冷却通道4,且冷却通道4的外侧固定套设有冷却盘管9,所述底座1的顶部固定安装有水箱12,且水箱12位于冷却箱2的一侧,所述冷却箱2和冷却盘管9之间密封连通有同一个循环冷却组件,所述底座1的顶部设置有输料组件,且输料组件的一侧贯穿冷却箱2的一侧并延伸至冷却箱2的另一侧。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 浙江一晶科技股份有限公司 一种晶体生产加工用循环冷却装置
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