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【实用新型】一种双光路同步观测纹影系统_河北工业大学_202021625523.2 

申请/专利权人:河北工业大学

申请日:2020-08-07

公开(公告)日:2021-04-27

公开(公告)号:CN213068628U

主分类号:G01N21/45(20060101)

分类号:G01N21/45(20060101);G01N21/01(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.04.27#授权

摘要:本实用新型公开了一种双光路同步观测纹影系统,包括光源、平面镜、双刀口、CCD相机和四个凹面镜;光源形成两条光路;其特征在于,CCD相机数量为一个,CCD相机位于直接向CCD相机反射光的凹面镜的焦点上,平面镜位于直接向平面镜反射光的凹面镜的焦点上;在平面镜和CCD相机之间设置双刀口,两条光路分别进入双刀口的两个刀口;平面镜和直接向CCD相机反射光的凹面镜位于不同光路上。该系统的两条光路同时进入同一个CCD相机,因此CCD相机能够同时获得被测流场的两个二维平面上的信息,实现被测流场的三维同步观测。

主权项:1.一种双光路同步观测纹影系统,包括光源、平面镜、双刀口、CCD相机和四个凹面镜;光源形成两条光路;其特征在于,CCD相机数量为一个,CCD相机位于直接向CCD相机反射光的凹面镜的焦点上,平面镜位于直接向平面镜反射光的凹面镜的焦点上;在平面镜和CCD相机之间设置双刀口,两条光路分别进入双刀口的两个刀口;平面镜和直接向CCD相机反射光的凹面镜位于不同光路上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 河北工业大学 一种双光路同步观测纹影系统

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