申请/专利权人：云南通威高纯晶硅有限公司

申请日：2020-07-31

公开（公告）日：2021-05-07

公开（公告）号：CN213134261U

主分类号：B08B3/10(20060101)

分类号：B08B3/10(20060101);B08B3/04(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.05.07#授权

摘要：本实用新型公开了一种去除小颗粒多晶硅料中表面杂质用清洗装置，属于多晶硅生产技术领域，包括池体，池体上端开口且下端封闭，池体上方设置有溢流堰，溢流堰上设置有导流管，池体底部设置有进液口和气体分布板，进液口与进液管相连，气体分布板与进气管相连，体中部设置有导流筒，导流筒通过支腿与池体内壁固定连接。本实用新型具有良好的清洗性能且更节省人力成本。

主权项：1.一种去除小颗粒多晶硅料中表面杂质用清洗装置，包括池体（1），所述池体（1）上端开口且下端封闭，其特征在于：所述池体（1）上方设置有溢流堰（2），所述溢流堰（2）上设置有导流管（3），所述池体（1）底部设置有进液口（4）和气体分布板（5），所述进液口（4）与进液管（6）相连，所述气体分布板（5）与进气管（7）相连，所述池体（1）中部设置有导流筒（8），所述导流筒（8）通过支腿与池体（1）内壁固定连接。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 云南通威高纯晶硅有限公司 一种去除小颗粒多晶硅料中表面杂质用清洗装置

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