申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司

申请日：2020-08-10

公开（公告）日：2021-05-07

公开（公告）号：CN213146092U

主分类号：F17D1/02(20060101)

分类号：F17D1/02(20060101);H01L21/67(20060101);F17D3/01(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.05.07#授权

摘要：本实用新型提供一种用于半导体设备的进气装置及半导体设备，其中，进气装置包括至少一条用于向半导体设备的工艺腔室内输送稀释气体和反应气体的工艺气体管路，该进气装置还包括吹扫气体管路，吹扫气体管路与工艺腔室连通，用于向工艺腔室内输送吹扫气体。本实用新型提供的半导体设备的进气装置及半导体设备，能够提高反应气体的排气效率，提高半导体工艺结束的及时性，从而能够降低过刻蚀的概率，提高工艺效果。

主权项：1.一种进气装置，用于半导体设备，所述进气装置包括至少一条用于向所述半导体设备的工艺腔室内输送稀释气体和反应气体的工艺气体管路，其特征在于，所述进气装置还包括吹扫气体管路，所述吹扫气体管路与所述工艺腔室连通，用于向所述工艺腔室内输送吹扫气体。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 进气装置及半导体设备

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