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【发明公布】光掩模坯料、光掩模的制造方法以及光掩模_信越化学工业株式会社_202011339150.7 

申请/专利权人:信越化学工业株式会社

申请日:2020-11-25

公开(公告)日:2021-06-08

公开(公告)号:CN112925163A

主分类号:G03F1/22(20120101)

分类号:G03F1/22(20120101);G03F1/50(20120101);G03F1/54(20120101);G03F1/62(20120101);G03F1/68(20120101);G03F1/80(20120101);H01L21/027(20060101);H01L21/033(20060101)

优先权:["20191205 JP 2019-220060"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2022.09.09#实质审查的生效;2021.06.08#公开

摘要:发明涉及的光掩模板包括:基板;被加工膜;以及由含有铬的材料构成的膜,该膜从远离基板的一侧起具有第1层、第2层、第3层以及第4层。第1层的铬含有率为40原子%以下含,氧含有率为38原子%以上含,氮含有率为22原子%以下含,且厚度为6nm以下含。第2层的铬含有率为38原子%以下含,氧含有率为30原子%以上含,氮含有量为18原子%以下含,碳为14原子%以下含,且膜厚为22nm以上含且32nm以下含。第3层的铬含有率为50原子%以下含,氧含有率为30原子%以下含,氮含有量为20原子%以上含,且膜厚为6nm以下含。第4层的铬含有率为44原子%以下含,氧含有率为20原子%以上含,氮含有量为20原子%以下含,碳为16原子%以下含,且膜厚为13nm以上含。

主权项:1.一种光掩模坯料,其特征在于,包括:基板;由含有铬的材料构成的膜;以及被加工膜,被配置在由上述含有铬的材料构成的膜与上述基板之间,并预定使用由上述含有铬的材料构成的膜的图案作为蚀刻掩模进行加工,其中,由上述含有铬材料构成的膜从远离上述基板的一侧起具有第1层、第2层、第3层以及第4层,上述第1层、第2层、第3层以及第4层均含有铬、氧、氮以及碳中的3种以上含的元素,上述第1层中的铬含有率为40原子%以下含、氧含有率为38原子%以上含,氮含有率为22原子%以下含、且厚度为6nm以下含,上述第2层中的铬含有率为38原子%以下含、氧含有率为30原子%以上含,氮含有量为18原子%以下含、碳为14原子%以下含、且膜厚为22nm以上含且32nm以下含,上述第3层中的铬含有率为50原子%以下含、氧含有率为30原子%以下含,氮含有量为20原子%以上含、且膜厚为6nm以下含,上述第4层中的铬含有率为44原子%以下含、氧含有率为20原子%以上含、氮含有量为20原子%以下含、碳为16原子%以下含、且膜厚为13nm以上含。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 信越化学工业株式会社 光掩模坯料、光掩模的制造方法以及光掩模

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