申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2020-11-26

公开（公告）日：2021-06-08

公开（公告）号：CN112928009A

主分类号：H01J37/32(20060101)

分类号：H01J37/32(20060101)

优先权：["20191206 JP 2019-221379"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.09.23#实质审查的生效;2021.06.08#公开

摘要：本发明提供不进行大气开放而高精度地计测处理容器内的状态的计测装置、计测方法和真空处理装置。计测装置包括：壳体，其形成有具有与真空处理装置的第二出入口对应的尺寸的开口部，能够在第二出入口气密地安装开口部，其中，真空处理装置在处理容器设置有用于送入送出基片的第一出入口和与第一出入口不同的第二出入口；对壳体内部进行减压的减压机构；以及收纳于壳体内部的计测机构，其在由减压机构对壳体内部进行了减压的状态下，经由开口部计测处理容器内的状态。

主权项：1.一种计测装置，其特征在于，包括：壳体，其形成有具有与真空处理装置的第二出入口对应的尺寸的开口部，能够在所述第二出入口气密地安装所述开口部，其中，所述真空处理装置在处理容器设置有用于送入送出基片的第一出入口和与第一出入口不同的所述第二出入口；对所述壳体内部进行减压的减压机构；以及收纳于所述壳体内部的计测机构，其在由所述减压机构对所述壳体内部进行了减压的状态下，经由所述开口部计测所述处理容器内的状态。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 计测装置、计测方法和真空处理装置

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