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【发明公布】基板处理设备、斜面罩及基板处理方法_ASM IP私人控股有限公司_202011412382.0 

申请/专利权人:ASM IP私人控股有限公司

申请日:2020-12-04

公开(公告)日:2021-06-08

公开(公告)号:CN112928011A

主分类号:H01J37/32(20060101)

分类号:H01J37/32(20060101);C23C16/50(20060101);C23C16/458(20060101);C23C16/455(20060101);C23C16/02(20060101)

优先权:["20191206 US 62/945,061"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2022.12.09#实质审查的生效;2021.06.08#公开

摘要:一种基板处理设备的示例包括:室;屏蔽部件,其是设置在所述室中的基座或上盖;以及斜面罩,其设置在所述室中并且具有倾斜表面,在该倾斜表面上,距所述屏蔽部件的竖直距离朝向屏蔽部件的中心侧增加。

主权项:1.一种基板处理设备,包括:室;屏蔽部件,其是设置在所述室中的基座或上盖;以及斜面罩,其设置在所述室中并且具有倾斜表面,在该倾斜表面上,距所述屏蔽部件的竖直距离朝向屏蔽部件的中心侧增加。

全文数据:

权利要求:

百度查询: ASM IP私人控股有限公司 基板处理设备、斜面罩及基板处理方法

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