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【发明公布】透明导电膜的制造方法_昭和电工株式会社_202080005802.5 

申请/专利权人:昭和电工株式会社

申请日:2020-05-29

公开(公告)日:2021-06-08

公开(公告)号:CN112930575A

主分类号:H01B13/00(20060101)

分类号:H01B13/00(20060101);H01B5/14(20060101)

优先权:["20190531 JP 2019-102654","20191107 JP 2019-202446"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.06.07#授权;2021.06.25#实质审查的生效;2021.06.08#公开

摘要:本发明的目的是提供一种不仅具有良好的光学特性和电特性、而且几乎没有面内的电阻值各向异性的无色透明导电膜。本发明是一种透明导电膜的制造方法,所述透明导电膜具有含有金属纳米线和粘合剂树脂的导电层,所述制造方法的特征在于,包含以下工序:调制含有所述金属纳米线及粘合剂树脂的涂布液的调制工序;和、在透明基材的一个主表面上涂布所述涂布液的涂布工序,在所述涂布工序中采用棒涂方式的印刷方法,所述棒涂方式通过形成有节距P与深度H的比率PH为5~30的沟槽的棒进行。

主权项:1.一种透明导电膜的制造方法,所述透明导电膜具有含有金属纳米线和粘合剂树脂的导电层,所述制造方法的特征在于,包含以下工序:调制含有所述金属纳米线和粘合剂树脂的涂布液的调制工序;和在透明基材的一个主表面上涂布所述涂布液的涂布工序,在所述涂布工序中采用棒涂方式的印刷方法,所述棒涂方式所采用的棒上形成有节距P与深度H的比率PH为5~30的沟槽。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 昭和电工株式会社 透明导电膜的制造方法

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