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【发明公布】一种微区测量纳米材料光学增益系数的测量方法及测量系统装置_国家纳米科学中心_202110164408.2 

申请/专利权人:国家纳米科学中心

申请日:2021-02-05

公开(公告)日:2021-06-08

公开(公告)号:CN112924392A

主分类号:G01N21/17(20060101)

分类号:G01N21/17(20060101);G01N21/25(20060101);G01N21/01(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.07.14#授权;2021.06.25#实质审查的生效;2021.06.08#公开

摘要:本申请提供了一种微区测量纳米材料光学增益系数的测量方法及测量系统装置,所述的测量方法包括:控制脉冲激光依次穿过凸透镜、小孔、柱面透镜和可调狭缝后形成条纹光斑,通过显微物镜使条纹光斑聚焦至待测纳米材料上;通过光学显微镜观察条纹光斑图像,并通过可调狭缝改变条纹光斑长度,分别测试不同长度的条纹光斑下的待测纳米材料的放大自发辐射光谱强度;根据放大自发辐射光谱强度与条纹光斑长度的曲线关系拟合得到待测纳米材料的光学增益系数。本申请可实现微区操作,可以获得更加精确的条纹光斑长度,条纹变化的步长更小,可获得更多指数区数据点,从而得到更加精确的光学增益系数。

主权项:1.一种微区测量纳米材料光学增益系数的测量方法,其特征在于,所述的测量方法包括:控制脉冲激光依次穿过凸透镜、小孔、柱面透镜和可调狭缝后形成条纹光斑,通过显微物镜使条纹光斑聚焦至待测纳米材料上;通过光学显微镜观察条纹光斑图像,并通过可调狭缝改变条纹光斑长度,从而实现不同长度的条纹光斑下的待测纳米材料的放大自发辐射光谱强度的测试;根据放大自发辐射光谱强度与条纹光斑长度的曲线关系拟合得到待测纳米材料的光学增益系数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 国家纳米科学中心 一种微区测量纳米材料光学增益系数的测量方法及测量系统装置

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