申请/专利权人：科磊股份有限公司

申请日：2017-01-06

公开（公告）日：2021-06-08

公开（公告）号：CN112925177A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101);G03F1/44(20120101);G06F30/39(20200101)

优先权：["20160111 US 62/277,274"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.09.06#授权;2021.06.25#实质审查的生效;2021.06.08#公开

摘要：本申请实施例涉及热点及工艺窗监测。本申请提供计量叠加目标以及监测工艺缺点的方法。目标包括周期性结构，所述周期性结构中的至少一者包括沿着所述周期性结构的对应分段方向的重复不对称元件。举例来说，可以不同方式将所述元件的不对称性设计为沿着垂直于所述元件的所述分段方向的方向重复的不对称子元件。可根据所监测工艺缺点的类型例如各种类型的热点、线边缘缩短、工艺窗参数等等来以不同方式设计所述子元件的不对称性。测量的结果可用于改进工艺及或提高计量测量的精度。

主权项：1.一种方法，其包括：使用具有计量目标的叠加工具，其中所述计量目标包括晶片和安置于所述晶片上的至少两个周期性结构，其中所述周期性结构中的至少一者包括沿着所述周期性结构的对应分段方向的重复不对称元件，其中所述重复不对称元件沿着垂直于所述分段方向的方向在内部是周期性的，其中所述重复不对称元件包括沿着所述垂直方向的重复子元件，所述子元件在所述分段方向上是不对称的，其中所述子元件包括至少断开一次的线，且其中所述子元件中的至少一些包括沿着所述垂直方向的垂直线，所述垂直线连接到所述子元件；以及使用所述叠加工具从所述计量目标导出计量信号。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 科磊股份有限公司 热点及工艺窗监测

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