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【发明授权】掩模板密封整形装置_上海微电子装备(集团)股份有限公司_201811141967.6 

申请/专利权人:上海微电子装备(集团)股份有限公司

申请日:2018-09-28

公开(公告)日:2021-06-08

公开(公告)号:CN110967923B

主分类号:G03F1/64(20120101)

分类号:G03F1/64(20120101);G03F7/20(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.06.08#授权;2020.05.01#实质审查的生效;2020.04.07#公开

摘要:本发明公开了一种掩模板密封整形装置,包括整形框架和设置在整形框架一侧的整形玻璃,整形框架上开设有真空通道,掩模板密封整形装置还包括密封圈,密封圈设置在整形框架的另一侧上,用于与需整形的掩模板密封形成封闭空间,真空通道与密封空间连通。上述掩模板密封整形装置能够大幅度减小掩模板的自重变形,提高掩模板曝光精度。并且,上述掩模板密封整形装置结构简单,无需引入可动元件,能够提高光刻机整机的可靠性。

主权项:1.一种掩模板密封整形装置,包括整形框架(10)和设置在所述整形框架(10)一侧的整形玻璃(20),所述整形玻璃(20)和所述整形框架(10)围设形成空腔,所述整形框架(10)上开设有真空通道(11),其特征在于,所述掩模板密封整形装置还包括密封圈(30),所述密封圈(30)设置在所述整形框架(10)的另一侧上,用于与需整形的掩模板(40)密封形成封闭空间,所述真空通道(11)与所述封闭空间连通,所述密封圈(30)包括相互连接的安装部(31)和密封圈本体(32),所述安装部(31)与所述整形框架(10)连接,所述密封圈本体(32)上开设有凹槽(321),所述凹槽(321)的开口朝向所述整形玻璃(20),所述密封圈本体(32)的数量为多个,多个所述密封圈本体(32)朝向所述空腔的中心依次设置;其中,在朝向所述空腔的中心的方向上,多个所述密封圈本体(32)的尺寸逐渐变小;或,在朝向所述空腔的中心的方向上,多个所述密封圈本体(32)的尺寸逐渐变大。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海微电子装备(集团)股份有限公司 掩模板密封整形装置

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